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"ESTAMPAGEM EM RELEVO ACENTUADA E PROCESSOS AFINS". A presente invenção refere-se a um padrão de estampagem em relevo acentuado de um artigo absorvente que apresenta um substrato que apresenta pelo menos uma área estampada em relevo e uma área não-estampada em relevo, onde a área estampada em relevo apresenta pelo menos duas paredes laterais e um fundo, e um revestimento depositado na área estampada em relevo, onde o revestimento confere contraste visual entre a área estampada em relevo e a área não-estampada em relevo do substrato. Também, são incluídos processos afins de formação de tais artigos absorventes. |
