发明名称 侦测反应性及有毒气体中之粒子的装置及方法
摘要 本发明为有关于在压力大于大约0 psig下侦测存在于含有粒子的气体中之粒子的装置和方法。该装置包含一种气体配送管线内含一种压力大于大约0 psig的受压气体以及一种在该气体配送管线中与该受压气体成流体相通的冷凝核计数器。该冷凝核计数器被装设成在压力实质上相等于该气体配送管线中该受压气体的压力下接受该受压气体的气流。该冷凝核计数器是建造自对受压气体的腐蚀性和反应性具有抵抗力的材料,该受压气体可能是诸如用于微晶片制程中之一或多种反应性或有毒气体或是一种惰性气体。
申请公布号 TWI232928 申请公布日期 2005.05.21
申请号 TW088122177 申请日期 1999.12.16
申请人 气体产品及化学品股份公司 发明人 韦恩.汤马士.麦德蒙;理察.卡尔.欧克维
分类号 G01N15/06 主分类号 G01N15/06
代理机构 代理人 陈展俊 台北市大安区和平东路2段203号4楼;林圣富 台北市大安区和平东路2段203号4楼
主权项 1.一种在压力大于0 psig至等于60 psig下侦测存在于含有粒子的气体中之粒子的装置,该装置包含:一内含一压力大于0 psig至等于60 psig的受压气体之气体配送管线;以及一在该气体配送管线中与该受压气体成流体相通的冷凝核计数器,及该冷凝核计数器被设有一光学检测室石英视窗其大小可承受大于0 psig至等于60psig的压力,其中该冷凝核计数器被装设成在压力实质上相等于该气体配送管线中该受压气体的压力下接受该受压气体的气流。2.如申请专利范围第1项所申请的装置,其中该受压气体为选自由SiCl4,PH3,B2H6,AsH3,SiF4,Si2H6,NH3,BCl3,BF3,Cl2,H2,HBr,HCl,HF,NF3,N2O,O2,SiH4,WF6,N2,Ar,He,CF4,CHF3,C2F6,SF6,及其混合物所组成的族群。3.如申请专利范围第1项所申请的装置,该装置进一步包含一测定在该受压气体中至少一种粒子的数量之设备。4.如申请专利范围第3项所申请的装置,该装置进一步包含一将该至少一种粒子的数量加以列表之设备。5.如申请专利范围第4项所申请的装置,其中该列表之设备是一部电脑。6.如申请专利范围第1项所申请的装置,其中该冷凝核计数器包含:(a)一储器区块;(b)被装设成接收该受压气体的气流且将该气流递送至该储器区块之一输入管;(c)被装设于该储器区块内之一饱和器,其中该饱和器受到一与该储器区块成热接触的加热器加热;(d)容置于该饱和器内之一工作流体;(e)部分浸渍于该工作流体中之一经烧结的金属芯;(f)被装设成接收来自该饱和器的该受压气体的气流之一冷凝器;(g)被装设成接收含有液滴之该受压气体的气流之一流体力学的聚焦喷嘴;(h)具有一液滴检测元件以计数和确认该受压气体气流中的液滴之一光学检测室,该光学检测室被设有该光学检测室石英视窗;和(i)被装设成自该光学检测室排放该含有液滴的受压气体气流之一输出管。7.如申请专利范围第1项所申请的装置,其中该冷凝核计数器是建造自对许多种受压气体的腐蚀性和反应性具有抵抗力的材料,该些受压气体包括但不限于SiCl4,PH3,B2H6,AsH3,SiF4,Si2H6,NH3,BCl3,BF3,Cl2,H2,HBr,HCl,HF,NF3,N2O,O2,SiH4,WF6,N2,Ar,He,CF4,CHF3,C2F6,SF6,及其混合物。8.一种含有压力大于0 psig至等于60 psig受压气体之气体配送系统,该气体配送系统的改良包括:一与该受压气体配送系统成流体相通的冷凝核计数器,及该冷凝核计数器被设有一光学检测室石英视窗其大小可承受大于0 psig至等于60 psig的压力,其中该冷凝核计数器被装设成在压力实质上相等于该气体配送系统中该气体的压力下接受该受压气体的气流。9.一种在压力大于0 psig至等于60 psig下侦测存在于含有粒子的气体中之粒子的方法,该方法包含以下的步骤:在压力大于0 psig至等于60 psig下提供一种含有一受压气体的气体配送管线;在该配送管线中提供一种与该受压气体成流体相通的冷凝核计数器,及该冷凝核计数器被设有一光学检测室石英视窗其大小可承受大于0 psig至等于60 psig的压力,其中该冷凝核计数器被装设成在压力实质上相等于该气体配送管线中该受压气体的压力下接受该受压气体的气流;和在压力实质上相等于该气体配送管线中该受压气体的压力下将一该受压气体的气流导入该冷凝核计数器中。10.如申请专利范围第9项所申请的方法,该方法进一步包含决定导入该冷凝核计数器的该受压气体中的至少一种粒子的数量之步骤。11.如申请专利范围第9项所申请的方法,其中该受压气体为选自由SiCl4,PH3,B2H6,AsH3,SiF4,Si2H6,NH3,BCl3,BF3,Cl2,H2,HBr,HCl,HF,NF3,N2O,O2,SiH4,WF6,N2,Ar,He,CF4,CHF3,C2F6,SF6,及其混合物所组成的族群。12.如申请专利范围第10项所申请的方法,该方法进一步包含将该至少一种粒子的数量列表之步骤。13.如申请专利范围第12项所申请的方法,其中一部电脑被用于列表。14.如申请专利范围第9项所申请的方法,其中该些粒子在至少50%计数效率下受到侦测。15.如申请专利范围第9项所申请的方法,其中该压力是60 psig。16.如申请专利范围第10项所申请的方法,其中该决定受压气体中的至少一种粒子的数量之步骤包含如下的次步骤:(a)将混合以一流体蒸气的一含有粒子的气体导入一冷凝区;(b)将该工作流体蒸气冷凝在该含有粒子的气体中具有相对于冷凝区之最低温度的最低大小的至少一粒子上以形成至少一液滴;和(c)侦测该些液滴和藉由适当感测和列表计数液滴的数量。17.如申请专利范围第16项所申请的方法,其中该工作流体是过氟三甲基环己烷。18.如申请专利范围第16项所申请的方法,其中该工作流体是一非反应性流体。19.如申请专利范围第18项所申请的方法,其中该工作流体是Multif1uor流体。图式简单说明:图1是根据本发明的冷凝核计数器之透视图;图2是图1的冷凝核计数器增添有热绝缘和照片探测器时延其2-2线的剖面侧视图;图3A是根据本发明的冷凝核计数器用来计数七种不同气体的计数效率之图示;图3B是根据本发明的冷凝核计数器用来计数另六种不同气体的计数效率之图示。
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