| 主权项 |
1.一种处理系统,包括:一包括多孔性中空管之螺旋状薄膜元件,及缠绕于该多孔性中空管之外围表面上的封袋状分离薄膜,该螺旋状薄膜元件可在高于0.05 MPa但不高于0.3 MPa之反压下反洗;一设置于该螺旋状薄膜元件之下游侧上的逆渗透薄膜分离装置;及一洗涤液体供给系统,其系经设置成在洗涤该螺旋状薄膜元件时,将在利用该螺旋状薄膜元件过滤时得自该逆渗透薄膜分离装置之至少一部分的渗透液体或浓缩液体提供至该螺旋状薄膜元件作为洗涤液体。2.如申请专利范围第1项之处理系统,其中该洗涤包括反洗,其系由该洗涤液体供给系统进行,以将至少一部分由该逆渗透薄膜分离装置排出之渗透液体或浓缩液体在高于0.05 MPa但不高于0.3 MPa之压力下供给至该螺旋状薄膜元件。3.如申请专利范围第1项之处理系统,其中该洗涤包括冲洗,其系由该洗涤液体供给系统进行,以在利用该螺旋状薄膜元件过滤时,将至少一部分由该逆渗透薄膜分离装置排出之渗透液体或浓缩液体供给至该螺旋状薄膜元件。4.如申请专利范围第1项之处理系统,其中该洗涤液体供给系统系经设置成将至少一部分由该逆渗透薄膜分离装置排出之渗透液体或浓缩液体与化学物质一起供给至该螺旋状薄膜元件。5.如申请专利范围第1项之处理系统,其中由该逆渗透薄膜分离装置排出之浓缩液体或渗透液体具有高于0.05 MPa但不高于0.3 MPa之残压,以致该洗涤液体供给系统在该洗涤时在该残压下将至少一部分之该浓缩液体或渗透液体供给至该螺旋状薄膜元件。6.如申请专利范围第1项之处理系统,其中:将复数个如申请专利范围第1项之螺旋状薄膜元件彼此并联设置,将该螺旋状薄膜元件连续洗涤,以致当洗涤该螺旋状薄膜元件之其中一者时,操作至少一个其他的螺旋状薄膜元件进行过滤;及该洗涤液体供给系统系经设置成在洗涤该螺旋状薄膜元件时将在利用复数个螺旋状薄膜元件过滤时得自该逆渗透薄膜分离装置之至少一部分的渗透液体或浓缩液体供给至各螺旋状薄膜元件作为洗涤液体。7.一种处理系统之操作方法,该处理系统包括一螺旋状薄膜元件,及一设置于该螺旋状薄膜元件之下游侧上的逆渗透薄膜分离装置,该螺旋状薄膜元件具有一多孔性中空管,及一缠绕于该多孔性中空管之外围表面上的封袋状分离薄膜,该螺旋状薄膜元件可在高于0.05 MPa但不高于0.3 MPa之反压下反洗;该方法包括下列步骤:在洗涤该螺旋状薄膜元件时将至少一部分在利用该螺旋状薄膜元件过滤时得自该逆渗透薄膜分离装置之渗透液体或浓缩液体供给至该螺旋状薄膜元件作为洗涤液体。8.如申请专利范围第7项之处理系统之操作方法,其中该洗涤包括反洗,其系以将至少一部分由该逆渗透薄膜分离装置排出之渗透液体或浓缩液体在高于0.05 MPa但不高于0.3 MPa之压力下供给至该螺旋状薄膜元件的方式进行。9.如申请专利范围第7项之处理系统之操作方法,其中该洗涤包括冲洗,其系以在利用该螺旋状薄膜元件过滤时,将至少一部分由该逆渗透薄膜分离装置排出之渗透液体或浓缩液体供给至该螺旋状薄膜元件的方式进行。10.如申请专利范围第7项之处理系统之操作方法,其中将至少一部分由该逆渗透薄膜分离装置排出之渗透液体或浓缩液体与化学物质一起供给至该螺旋状薄膜元件。11.如申请专利范围第7项之处理系统之操作方法,其中由该逆渗透薄膜分离装置排出之浓缩液体或渗透液体具有高于0.05 MPa但不高于0.3 MPa之残压,以致在该洗涤时在该残压下将至少一部分之该浓缩液体或渗透液体供给至该螺旋状薄膜元件。12.一种处理系统之操作方法,其中:将复数个如申请专利范围第7项之螺旋状薄膜元件彼此并联设置,将该螺旋状薄膜元件连续洗涤,以致当洗涤该螺旋状薄膜元件之其中一者时,操作至少一个其他的螺旋状薄膜元件进行过滤;及在洗涤该螺旋状薄膜元件时将在利用复数个螺旋状薄膜元件过滤时得自该逆渗透薄膜分离装置之至少一部分的渗透液体或浓缩液体供给至各螺旋状薄膜元件作为洗涤液体。图式简单说明:图1系显示根据本发明之第一具体例之薄膜分离系统之一例子的典型组态图;图2A系显示设置于螺旋状薄膜单元中之螺旋状薄膜元件之一例子的典型剖面图;及图2B系螺旋状薄膜元件之部分切开透视图;图3系显示在螺旋状薄膜单元中之反洗操作的典型剖面图;图4系显示根据本发明之第二具体例之薄膜分离系统的典型组态图;图5系显示根据本发明之第三具体例之薄膜分离系统的典型组态图;图6系设置于螺旋状薄膜单元中之螺旋状薄膜元件之分离薄膜的剖面图;图7系显示第一比较实施例之典型组态图;及图8系显示第二比较实施例之典型组态图。 |
