| 主权项 |
1.一种瓦斯炉,系由玻璃板形成可覆盖收容瓦斯燃 烧器之炉本体上面之面板者,其特征在于: 在前述面板下侧配设有检测装置,且设置有可控制 之控制部,该控制部在藉由前述检测装置检出操作 者之操作时,可利用瓦斯燃烧器进行对应该操作之 特定动作。 2.一种瓦斯炉,系由玻璃板形成可覆盖收容瓦斯燃 烧器之炉本体上面之面板,且在其面板形成有瓦斯 燃烧器用开口者,其特征在于: 在前述面板上面设有操作部,且于对应面板操作部 之下面设有检测装置,又,设置有可控制之控制部, 该控制部在藉由检测装置检出前述操作部中之操 作者操作时,可利用瓦斯燃烧器进行对应该操作之 特定动作。 3.一种瓦斯炉,系由玻璃板形成可覆盖收容瓦斯燃 烧器之炉本体上面之面板,且在其面板形成有瓦斯 燃烧器用开口者,其特征在于: 在前述面板上面设有操作部,且于对应面板操作部 之下面设有检测装置,又,在前述炉本体设有供给 瓦斯至瓦斯燃烧器之电磁瓦斯控制阀,且,设置有 在藉由检测装置检出前述操作部中之操作者操作 时,可控制前述电磁瓦斯控制阀动作之控制部。 4.如申请专利范围第2项之瓦斯炉,其中前述检测装 置系使用光感应器。 5.如申请专利范围第3项之瓦斯炉,其中前述检测装 置系使用光感应器。 6.如申请专利范围第4或5项之瓦斯炉,其中前述面 板之操作部具有红外线透过性,且前述光感应器系 由红外线之发光部与受光部构成。 7.如申请专利范围第4或5项之瓦斯炉,其中前述面 板之操作部具有可见光透过性,且前述光感应器系 由可见光之发光部与受光部构成。 8.如申请专利范围第2项之瓦斯炉,其中前述检测装 置系使用依静电电容之变化而动作之开关。 9.如申请专利范围第3项之瓦斯炉,其中前述检测装 置系使用依静电电容之变化而动作之开关。 10.如申请专利范围第1、2、3、4、5、8或9项之瓦斯 炉,其中前述面板之热传导率系在1.0~2.0W/mk之范 围内。 11.如申请专利范围第2、3、4、5、8或9项之瓦斯炉, 其中前述操作部配置于偏离瓦斯燃烧器正面之侧 方。 12.如申请专利范围第1、2、3、4、5、8或9项之瓦斯 炉,其中前述检测装置设置有当在面板上检出异物 或小动物等操作者以外的东西时,可防止前述控制 部误动作之误动作防止装置。 13.如申请专利范围第1、2、3、4、5、8或9项之瓦斯 炉,更设置有动作限制装置,用以在操作者误操作 时,使前述控制部不会进行对应前述误操作之控制 动作。 14.如申请专利范围第1、2、3、4、5、8或9项之瓦斯 炉,更设置有在前述瓦斯燃烧器点火后,操作者误 操作时,用以进行熄火动作之紧急熄火装置。 15.如申请专利范围第1、2、3、4、5、8或9项之瓦斯 炉,更设置有用以锁固前述控制部之动作的锁固装 置。 图式简单说明: 第1图系表示第1实施形态之瓦斯炉之平面图。 第2图系表示放大第1图之瓦斯炉之侧面图。 第3图系为第2图之瓦斯炉之部份放大截面图。 第4图系为第1图之瓦斯炉之横截面图。 第5图系表示放大第1图之瓦斯炉操作之部份平面 图。 第6图系为第5图之操作部下部之开关之部份截面 图。 第7图系在第5图之7-7线之部份截面图。 第8图系表示第1图之瓦斯炉回路构成之方块图。 第9图系表示同瓦斯炉之点火动作之流程图。 第10图系表示第2实施形态之瓦斯炉操作之部份平 面图。 第11图系表示同瓦斯炉之点火动作之流程图。 第12图系表示第3实施形态之瓦斯炉操作部之部份 平面图。 第13图系表示第4实施形态之瓦斯炉之部份截面图 。 第14图系表示第5实施形态之瓦斯炉操作之部份平 面图。 第15图系表示同瓦斯炉之操作锁固动作之流程图 。 第16图系表示第6实施形态之瓦斯炉操作部之部份 平面图。 第17图系表示变形例之瓦斯炉之部份截面图。 第18图系表示习知瓦斯炉之平面图。 第19图系表示放大第18图之瓦斯炉之侧面图。 |
