| 主权项 |
1.一种封闭组件之启闭扣件构造改良,主要包括: 一第一封闭件: 该第一封闭件内侧设有至少一磁性元件,该磁性元 件系由本体贯穿一锁制元件,该锁制元件之端部与 第一封闭件形成结合; 一第二封闭件: 该第二封闭件与第一封闭件形成对应且可相对闭 合之状态;该第二封闭件设有一受磁元件,该受磁 元件对应磁性元件,形成可相互吸附之状态; 藉由该磁性元件及受磁元件之互相吸附,可令第一 封闭件与第二封闭件相互封闭;且藉由锁制元件之 贯穿固定,可有提高磁性元件之固定性。 2.如申请专利范围第1项所述之封闭组件之启闭扣 件构造改良,其中该第一封闭件内侧设有至少一基 座,该基座端面预设一凹室,该凹室可供磁性元件 容置,并由锁制元件穿贯该磁性元件而与凹室之内 壁相结合固定。 3.如申请专利范围第1项所述之封闭组件之启闭扣 件构造改良,其中该磁性元件之本体受锁制元件贯 穿之处形成一穿孔,该穿孔内围形成适当深度之下 凹部,俾供锁制元件之大径端容置而与磁性元件之 表面齐平。 4.如申请专利范围第1项所述之封闭组件之启闭扣 件构造改良,其中该第二封闭件内侧对应基座之位 置设有至少一固定座,该固定座之开口端则可供受 磁元件配合一螺固元件容置锁固,于该固定座其中 一壁面开设一槽缝。 5.如申请专利范围第1项所述之封闭组件之启闭扣 件构造改良,其中该受磁元件可为一金属片,其受 磁元件至少一边弯折出一转折壁,于该转折壁对应 固定座之槽缝处设有一孔,以供螺固元件对应螺设 ,进而与槽缝结合而固定该受磁元件。 6.如申请专利范围第1项所述之封闭组件之启闭扣 件构造改良,其中该受磁元件可为一与磁性元件之 磁性相异之磁性物。 图式简单说明: 第一图系习用品之立体分解图 第二图系本创作之立体图 第三图系本创作之立体分解图 第四图系本创作之构件组合剖示图 第五图系本创作另一实施例之立体分解图 |
