重氮基二化合物及辐射敏感性树脂组成物

摘要

崭新的重氮基二化合物其对远紫外线(以KrF准分子雷射等为代表)具有高感度且能够产生酸并且当作为化学放大护膜用的光致酸产生剂时其可以提供优良解析度及图案的护膜，及包含重氮基二化合物的辐射敏感性树脂组成物。重氮基二化合物系以下式(1)及(2)表示。(1)(2)辐射敏感性树脂组成物包含重氮基二化合物及以4－羟基苯乙烯/4－(1′－乙氧乙氧基)苯乙烯共聚物为代表的树脂。

主权项

1.一种下式(43)之重氮基二化合物, 2.一种下式(35),(37),(39),(42),(46)或(48)中任一者所示 之重氮基二化合物, 3.一种辐射敏感性树脂组成物,该组成物包含(A)如 申请专利范围第1项之重氮基二化合物及(B)具有 下式(3)所示之重覆单元与下式(4)所示之重覆单元 的树脂, 其中R21表示氢原子或甲基, 其中R22及R23独自表示氢原子或甲基,R24表示具1-4个 碳原子的烷基,且R25表示具1-6个碳原子的烷基,其 中组份(A)的加入量为0.01至50重量份,以组成物中总 树脂组份为100重量份计。 4.一种辐射敏感性树脂组成物,该组成物包含(A)如 申请专利范围第2项之重氮基二化合物及(B)具有 下式(3)所示之重覆单元与下式(4)所示之重覆单元 的树脂, 其中R21表示氢原子或甲基, 其中R22及R23独自表示氢原子或甲基,R24表示具1-4个 碳原子的烷基,且R25表示具1-6个碳原子的烷基,其 中组份(A)的加入量为0.01至50重量份,以组成物中总 树脂组份为100重量份计。 5.如申请专利范围第3项之辐射敏感性树脂组成物, 其中,该组成物尚包含除申请专利范围第1项之重 氮基二化合物之外的酸产生剂。 6.如申请专利范围第4项之辐射敏感性树脂组成物, 其中,该组成物尚包含除申请专利范围第2项之重 氮基二化合物之外的酸产生剂。 7.如申请专利范围第3项之辐射敏感性树脂组成物, 其中,该组成物除组份(B)的树脂之外尚包含含有酸 可分解基团的树脂。 8.如申请专利范围第4项之辐射敏感性树脂组成物, 其中,该组成物除组份(B)的树脂之外尚包含含有酸 可分解基团的树脂。 9.如申请专利范围第3项之辐射敏感性树脂组成物, 其中,该组成物尚包含酸扩散控制剂。 10.如申请专利范围第4项之辐射敏感性树脂组成物 ,其中,该组成物尚包含酸扩散控制剂。 11.如申请专利范围第9项之辐射敏感性树脂组成物 ,其中,酸扩散控制剂为含氮化合物。 12.如申请专利范围第10项之辐射敏感性树脂组成 物,其中,酸扩散控制剂为含氮化合物。 图式简单说明: 图1显示合成例1中制得之重氮基二化合物(2)的IR 光谱。 图2显示合成例2中制得之重氮基二化合物(2)的IR 光谱。 图3显示合成例3中制得之重氮基二化合物(2)的IR 光谱。 图4为说明似裙支点之评估的略图。