发明名称 反光结构
摘要 本创作系提供一种反光结构,主要包含一基材层、一反光层、一保护膜及一外覆层,其中,该反光层形成于该基材层表面,且该反光层系由复数个颗粒细微的反光玻璃珠紧密相邻地黏附于该基材层表面所组成,俾供反射光线者;该保护膜靠置于该反光层表面,据以保护该反光层并形成阻隔,以防止水珠形成于该反光层表面,俾供提高反光效率者;该外覆层包覆于该保护膜及该基材层外部,俾供定位该反光层及该保护膜者。
申请公布号 TWM265270 申请公布日期 2005.05.21
申请号 TW093211192 申请日期 2004.07.15
申请人 永福隆兴业股份有限公司 发明人 赖瑞彬
分类号 B60Q1/26;B60Q7/00 主分类号 B60Q1/26
代理机构 代理人
主权项 1.一种反光结构,主要包含一基材层、一反光层、 一保护膜及一外覆层,其中,该反光层形成于该基 材层表面,且该反光层系由复数个颗粒细微的反光 玻璃珠紧密相邻地黏附于该基材层表面所组成,俾 供反射光线者; 该保护膜靠置于该反光层表面,据以保护该反光层 并形成阻隔,以防止水珠形成于该反光层表面,俾 供提高反光效率者;该外覆层包覆于该保护膜及该 基材层外部,俾供定位该反光层及该保护膜者。 2.依据申请专利范围第1项所述反光结构,其中,该 保护膜及该外覆层分别系由透明性及透光性良好 的材料制成者。 图式简单说明: 第一图系习知反光结构使用状态之局部放大剖视 图。 第二图系习知反光结构使用状态之另一示意图。 第三图系本创作较佳实施例的剖视图。 第四图系第二图的局部放大图。
地址 台中县神冈乡大丰路89号