| 主权项 |
1.一种投影光学系统,系透过凸缘部被支持于台架, 将形成于光罩上的图案像投影于既定面上者,其特 征在于,具备: 第1保持构件,系保持配置于第1光轴上的至少一个 第1光学元件; 第2保持构件,系保持配置于与该第1光轴交叉的第2 光轴上的至少一个第2光学元件;以及 连结构件,具有连结该第1保持构件连结的第1连结 部、以及连结该第2保持构件连结的第2连结部; 该连结构件,系设于该凸缘部。 2.如申请专利范围第1项之投影光学系统,其中,与 该第1连结部连结的该第1保持构件,不接触与该第2 连结部连结的该第2保持构件。 3.如申请专利范围第1或2项之投影光学系统,其中, 在该第1连结部连结于该第1保持构件之一端部,该 第2连结部连结于该第2保持构件之一端部,该第1保 持构件及该第2保持构件与该连结构件相连结状态 下,该第1保持构件所保持的该第1光学元件的光轴 与该第2保持构件所保持的该第2光学元件的光轴, 系朝向不同方向。 4.如申请专利范围第1或2项之投影光学系统,其中 该凸缘部与该连结构件系构成为一体。 5.如申请专利范围第1或2项之投影光学系统,其中, 该凸缘部与该连结构件系分别独立构成,且该凸缘 部与该连结构件系以固定构件加以固定。 6.如申请专利范围第1或2项之投影光学系统,其中, 进一步具备第3保持构件,系隔着该连结构件与该 第1保持构件对向设置,用来保持配置于该第1光轴 上、或与该第1光轴平行的轴上、或与该第1光轴 交叉的轴上的至少一个第3光学元件; 该连结构件,具有与该第3保持构件连结的第3连结 部。 7.如申请专利范围第6项之投影光学系统,其中,该 第1保持构件与该第2保持构件与该第3保持构件彼 此不接触,该第3保持构件系与该第3连结部连结。 8.如申请专利范围第6项之投影光学系统,其中,该 安装构件系设于该第3保持构件,该连结构件被支 持于该第3保持构件。 9.如申请专利范围第1或2项之投影光学系统,其中, 该第1保持构件包含保持该至少一个第1光学元件 的至少一个保持框,该第2保持构件包含保持至少 一个第2光学元件及凹面反射镜的至少一个保持框 。 10.如申请专利范围第9项之投影光学系统,其中,该 至少一个第1光学元件构成第1成像光学系统,该至 少一个第2光学系统及该凹面反射镜构成第2成像 光学系统。 11.如申请专利范围第1或2项之投影光学系统,其中, 具有: 第1成像光学系统,系具有包含该至少一个第1光学 元件的复数光学元件,用以形成该图案的第1中间 像; 第1光程曲折镜,系配置于该第1中间像的形成位置 附近,使朝向该第1中间像的光束或来自该第1中间 像的光束偏向; 第2成像光学系统,系包含该至少一个第2光学元件 与凹面反射镜,使用来自该第1中间像的光束,将第2 中间像形成在该第1中间像的形成位置附近; 第2光程曲折镜,系配置于该第2中间像的形成位置 附近,使朝向该第2中间像的光束或来自该第2中间 像的光束偏向;以及 第3成像光学系统,系包含该至少一个第3光学元件 的复数光学元件,使用来自该第2中间像的光束,将 该图案的缩小像成像于基板上。 12.如申请专利范围第11项之投影光学系统,其中,该 第1保持构件包含复数个保持框,系用以保持含有 该至少一个第1光学元件的复数光学元件;该第2保 持构件包含复数个保持框,系用以保持该第1光程 曲折镜、该至少一个第2光学元件、该凹面反射镜 以及该第2光程曲折镜;该第3保持构件包含复数个 保持框,系用以保持含有该至少一个第3光学元件 的复数光学元件。 13.如申请专利范围第1或2项之投影光学系统,其中, 该连结构件具有光学元件更换机构,其系被保持在 该第1、第2及第3保持构件中之至少一个,用来更换 收容在该连结构件内的至少一个光学元件。 14.如申请专利范围第13项之投影光学系统,其中,该 第2光学元件包含反射光学元件,该反射光学元件 具有第1光程曲折镜与第2光程曲折镜,第1光程曲折 镜系使来自第1中间像的光束或朝向此第1中间像 的光束偏向,第2光程曲折镜则系使来自第2中间像 的光束或朝向此第2中间像的光束偏向,第1中间像 系由该第1光学元件的至少一部份所形成,第2中间 像系藉该第2光学元件根据该第1中间像所形成; 该光学元件更换机构,系用来更换该反射光学元件 者。 15.如申请专利范围第1或2项之投影光学系统,其中 该连结构件由陶瓷材料所构成。 16.如申请专利范围第1或2项之投影光学系统,其中, 该第1、第2与第3保持构件以及该台架中至少一个, 系由线膨胀系数异于构成该连结构件之材料之线 膨胀系数的材料所形成,二材料的线膨胀系数差大 于既定値,且该1、第2与第3保持构件、该台架中之 至少一个以及该连结构件系透过挠性机构连结。 17.一种曝光装置,系将形成于光罩上的图案像曝光 于基板上者,其特征在于: 具备申请专利范围第1至16项中任一项之投影光学 系统。 18.一种元件之制造方法,其特征在于: 包含使用申请专利范围第17项之曝光装置来进行 曝光之光微影步骤。 19.一种曝光装置,其系将形成于光罩上的图案像曝 光于基板上者,特征在于: 具备台架,与透过凸缘部、被支持于该台架的折反 射型投影光学系统; 该投影光学系统,具有 第1保持构件,系用来保持配置于第1光轴上之至少 一个第1光学元件; 第2保持构件,系用来保持配置于第2光轴上之至少 一个第2光学元件;以及 连结构件,系将该第1保持构件与该第2保持构件连 结成该第1光轴与该第2光轴交叉,且该第1保持构件 与该第2保持构件彼此分离; 该连结构件,系设于该凸缘部。 20.如申请专利范围第19项之曝光装置,其中,该第1 保持构件及该第2保持构件,系形成为能彼此独立 的安装于该连结构件。 21.如申请专利范围第19项之曝光装置,其中,进一步 具备反射光学元件,其系被收容于该连结构件内, 将沿该第1光轴射入该投影光学系统之光的方向变 更为该第2光轴的方向。 22.如申请专利范围第21项之曝光装置,其中,该反射 光学元件具有可对该连结构件装卸的配件。 图式简单说明: 第1图系本发明第1实施形态之曝光装置的概略图 。 第2图系第1图之投影光学系统的截面图。 第3图系第1图之横镜筒及连结体的部份截面立体 图。 第4图系沿第2图之4-4线的截面图。 第5图系第4图之螺栓安装部的部份放大截面图。 第6图系本发明第2实施形态之投影光学系统的截 面图。 第7图系本发明第3实施形态之投影光学系统的截 面图。 第8图系本发明第4实施形态之投影光学系统的截 面图。 第9图系使用本发明之曝光装置之元件制造例的流 程图。 第10图系第9图的详细流程图。 |
