半导体制造装置用制程反应室之内壁保护体

摘要

【物品用途】本创作系一种有关半导体制造装置用制程反应室之内壁保护体之新式样设计，通常被使用在半导体制造装置中之制程反应室。【创作特点】从各视图观之，最主要之特征为：本创作系成环状形体，其上方开口微弧形内缩，而底部之圆形开口，则比上方之开口小，且于本体之周边，交错开设数个不同大小、宽窄之横长形槽孔，及一大一小两个圆形孔；整体观之，出色又独特，是一种具有新颖性与创作性，且富于视觉美感之设计。

主权项

如图所示「半导体制造装置用制程反应室之内壁 保护体」之新式样。 图式简单说明: 第1图系本创作之立体图。 第2图系本创作之前视图。 第3图系本创作之后视图。 第4图系本创作之右侧视图。 第5图系本创作之左侧视图。 第6图系本创作之俯视图。 第7图系本创作之仰视图。 第8图系本创作第2图之A-A剖面图。 第9图系本创作第6图之B-B剖面图。 第10图系本创作之使用状态参考图之剖面图。