| 发明名称 |
Verfahren zur Herstellung eines Zwischenschichtisolierfilmes |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE19804375(B4) |
申请公布日期 |
2005.05.19 |
| 申请号 |
DE19981004375 |
申请日期 |
1998.02.04 |
| 申请人 |
MITSUBISHI DENKI K.K., TOKIO/TOKYO |
发明人 |
MATSUURA, MASAZUMI |
| 分类号 |
H01L21/314;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/314 |
主分类号 |
H01L21/314 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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