| 发明名称 | 低吸水率二氧化硅 | ||
| 摘要 | 本发明涉及制备低吸水率沉淀二氧化硅的方法，包括以下连续步骤：(a)生产包括硅酸盐的初始原料，在所述原料中的硅酸盐浓度(以SiO<SUB>2</SUB>当量表示)低于15g/l；(b)通过添加酸化剂，使介质的pH达到7－8的值；(c)在所得介质中，同时添加硅酸盐和酸化剂，特定地选择硅酸盐和酸化剂的随时间变化的各自添加量，使得在整个添加过程中(i)反应介质的pH保持在7－8，(ii)在介质中的硅浓度(按SO<SUB>2</SUB>当量表示)保持低于或等于35g/l；(d)将酸化剂加入到由步骤(c)获得的介质中，以便使介质处于3－6.5的pH；和(e)过滤所得二氧化硅水分散体，然后干燥在过滤步骤最后获得的滤饼。本发明还涉及通过所述方法获得的低吸水率二氧化硅和它们的用途，尤其用于增强硅酮或聚合物或弹性体基质的用途。 | ||
| 申请公布号 | CN1617833A | 申请公布日期 | 2005.05.18 |
| 申请号 | CN02827628.0 | 申请日期 | 2002.12.24 |
| 申请人 | 罗狄亚化学公司 | 发明人 | R·瓦莱罗;Y·舍瓦利耶 |
| 分类号 | C01B33/193;A61K47/02;A61K7/16;A61K7/48;A23L1/059;C08K3/36 | 主分类号 | C01B33/193 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 龙传红 |
| 主权项 | 1、制备低吸水率沉淀二氧化硅的方法，包括以下连续步骤：(a)生产包括硅酸盐的初始原料，在所述原料中的硅酸盐浓度以SiO2当量表示低于15g/l；(b)通过添加酸化剂，使介质的pH达到7-8的值；(c)在所得介质中，同时添加硅酸盐和酸化剂，特定地选择硅酸盐和酸化剂的随时间变化的各自添加量，使得在整个添加过程中：-反应介质的pH保持在7-8；-在介质中的硅浓度按SO2当量表示保持低于或等于35g/l；(d)将酸化剂加入到由步骤(c)获得的介质中，以便使介质处于3-6.5的pH；和(e)过滤所得二氧化硅水分散体，然后干燥在过滤步骤最后获得的滤饼。 | ||
| 地址 | 法国布洛涅－比扬古 | ||