发明名称 材料喷射头的清洁
摘要 对一个材料喷射头(1)的清洁包括:在材料喷射循环之外的清洁循环,该清洁循环包括如下预定的步骤:a)设置一个吸收元件(3);b)设置一个刮擦元件(9);c)到达一个称为清洁初始位置的位置,在该位置中吸收元件(3)的至少一段插入到该刮擦元件(9)和该材料输出装置(11)之间,该吸收元件(3)和刮擦元件(9)因此构成了一个清洁组件;d)产生了沿与在该清洁组件和材料输出装置(11)之间的上升方向(Z)大致垂直的清洁平面(X;Y)的相对移动,使得在几乎与吸收元件所进行的吸收同时,刮擦元件(9)刮擦该材料输出装置(11)。
申请公布号 CN1617802A 申请公布日期 2005.05.18
申请号 CN02827734.1 申请日期 2002.11.28
申请人 格姆普拉斯公司 发明人 O·奥德
分类号 B41J2/165;B05B15/02 主分类号 B41J2/165
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 苏娟
主权项 1.清洁至少一个材料喷射头(1)的方法,该喷射头(1)包括一个待喷射材料的输出装置(11);其特征在于,其在通过这个喷射头进行的所有的材料喷射之外,包括一个清洁循环,该清洁循环包括下述的预定步骤:a)设置一个吸收元件(3),该吸收元件(3)能够吸收该材料并且根据第一几何关系相对该材料输出装置(11)设置在该空间(X;Y;Z)中;b)设置一个刮擦元件(9),其根据第二几何关系相对该材料输出装置(11)和吸收元件(3)设置在该空间(X;Y;Z)中。c)到达称为清洁初始位置的位置,在该位置中,吸收元件(3)的至少一段被插入在该刮擦元件(9)和材料输出装置(11)之间,该吸收元件(3)和刮擦元件(9)构成了一个清洁组件;d)使该清洁组件沿大致与该上升方向(Z)垂直的清洁平面(X;Y)在该清洁组件和材料输出装置(11)之间形成相对移动,以便该刮擦元件(9)刮擦该材料输出装置,同时由吸收元件进行吸收,并且该刮擦动作根据该刮擦元件(9)在该吸收元件(3)的移动方向中移动而进行。
地址 法国热姆诺