高分子化合物、光致抗蚀剂材料及图案形成方法

摘要

光致抗蚀剂材料的基础树脂，由含有以式1这样的通式表示的第一单元和以式2这样的通式表示的第二单元的高分子化合物构成。由此而提供一种对波长小于等于300nm带的曝光光的透过性优良、基板密接性、显影溶解性优良的光致抗蚀剂材料。

主权项

1.一种高分子化合物，其特征在于：其含有以式1这样的通式表示的第一单元和以式2这样的通式表示的第二单元且重均分子量大于等于1000且小于等于500000，式1式2R¹、R²及R³相同或不同，为氢原子、氟原子、碳原子的个数大于等于1且小于等于20的直链烷基、支链或环烷基、或者氟代烷基；R⁴为碳原子的个数大于等于0且小于等于20的直链亚烷基、或者支链或环亚烷基；R⁵及R⁶相同或不同，为氢原子、碳原子的个数大于等于1且小于等于20的直链烷基、支链或环烷基、氟代烷基、或者利用酸脱离出来的保护基；R⁷为亚甲基、氧原子、硫原子、或者-SO2-；R⁸、R⁹、R¹⁰及R¹¹相同或不同，为氢原子、氟原子、羟基、-OR¹³、-CO₂R¹³、-R¹²-OR¹³-或者-R¹²-CO₂R¹³；R⁸、R⁹、R¹⁰及R¹¹中至少有一个含有：-OR¹³、-CO₂R¹³、-R¹²-OR¹³-或者-R¹²-CO₂R¹³(R¹²为碳原子的个数大于等于1且小于等于20的直链亚烷基、支链或环亚烷基、或者氟代亚烷基；R¹³为氢原子、碳原子的个数大于等于1且小于等于20的直链烷基、支链或环烷基、氟代烷基、或者利用酸脱离出来的保护基)；a满足0＜a＜1，b满足0＜b＜1，c为0或者1。