| 发明名称 |
POLISHING AND CLEANING APPARATUS OF SEMICONDUCTOR WAFER AND CONTROL METHOD THEREOF |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
KR20050045615(A) |
申请公布日期 |
2005.05.17 |
| 申请号 |
KR20030079755 |
申请日期 |
2003.11.12 |
| 申请人 |
DONGBUANAM SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
KWON, KYOUNG MAN |
| 分类号 |
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
