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"COMPOSIçõES DE REMOçãO E LIMPEZA PARA PRODUTOS MICROELETRÈNICOS". A invenção refere-se a composições de limpeza contendo alcalinos e método de uso das composições de limpeza para limpar substratos microeletrónicos, particularmente substratos microeletrónicos de FPD, as composições sendo capazes de limpar essencialmente de maneira completa esses substratos e não produzir essencialmente nenhuma corrosão metálica dos elementos metálicos de tais substratos. As composições de limpeza contendo alcalinos desta invenção possuem (a) uma amina nucleofílica, (b) um ácido moderado a fraco tendo uma força expressa como 'pKa' para a constante de dissociação em solução aquosa, de cerca de 1,2 a cerca de 8, (c) um composto selecionado de um álcool, diol, poliol ou glicol éter alifáticos e (d) um co-solvente orgânico, preferivelmente tendo um parâmetro de solubilidade de cerca de 8 a cerca de 15. As composições de limpeza desta invenção conterão uma quantidade de ácido fraco tal que a razão de equivalente molar de grupos ácido para grupos amina seja superior a 0,75 e possa chegar a 1 ou passar de 1, como, por exemplo, uma razão de 1,02 ou mais. O pH das composições de limpeza contendo alcalinos desta invenção estará na faixa de cerca de 4,5 a 9,5.
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