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发明名称
清洁矽酸盐材料的制程及装置
摘要
供处理一石英基板之一表面的一方法,包含:准备一基板以提供具有一初始粗糙度的一工作表面;以及接着以超音波酸蚀刻工作表面,以增加工作表面之粗糙度至少约10%。一实施例中,初始表面粗糙度大于约10Ra,且另一实施例中,初始表面粗糙度大于约200Ra。又一实施例中,初始表面积,若小于约200Ra,则增加到大于约200Ra。本发明其他实施例中,工作表面粗糙度增加至少约25%或至少约50%。在表面积(由粗糙度估量)增加的同时,降低表面缺陷,以减少来自基板的微粒污染。
申请公布号
TW200516656
申请公布日期
2005.05.16
申请号
TW093122255
申请日期
2004.07.26
申请人
晶科精密洁净股份有限公司
发明人
珊曼莎 谭;宁 陈
分类号
H01L21/30
主分类号
H01L21/30
代理机构
代理人
蔡玉玲
主权项
地址
美国
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