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发明名称
高杂质钼氧化物形成之电子装置
摘要
本发明系关于电子装置,其中在该电子装置之至少一部分中系包含高纯度钼氧化物。依照本发明之装置系诸如一双极电晶体、一场效电晶体及一闸流体,其具有一高耐受电压。本发明亦关于利用高纯度钼氧化物所形成之恶劣环境电子装置。依照本发明之装置可以在诸如700℃之较低温度下来制造,此温度比制造GaN或SiC装置之温度(高于1000℃)还要低。
申请公布号
TW200516768
申请公布日期
2005.05.16
申请号
TW093115853
申请日期
2004.06.02
申请人
河东田隆
发明人
河东田隆
分类号
H01L29/12;H01L21/205
主分类号
H01L29/12
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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