发明名称 高杂质钼氧化物形成之电子装置
摘要 本发明系关于电子装置,其中在该电子装置之至少一部分中系包含高纯度钼氧化物。依照本发明之装置系诸如一双极电晶体、一场效电晶体及一闸流体,其具有一高耐受电压。本发明亦关于利用高纯度钼氧化物所形成之恶劣环境电子装置。依照本发明之装置可以在诸如700℃之较低温度下来制造,此温度比制造GaN或SiC装置之温度(高于1000℃)还要低。
申请公布号 TW200516768 申请公布日期 2005.05.16
申请号 TW093115853 申请日期 2004.06.02
申请人 河东田隆 发明人 河东田隆
分类号 H01L29/12;H01L21/205 主分类号 H01L29/12
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本