发明名称 微影化学制程之适应性热控制
摘要 本发明揭示一种热控制微影化学制程之系统、装置及方法。该热控制系统包含一多区热感测单元,其含有复数个热感测元件。这些热元件系配置用以检测复数个在该等基板上之预先定义区域之温度。该系统也包含一多区热调节单元,其包含复数个热耦合器元件,其系配置用以调节该等预先定义区域之温度。该系统尚包含一热控制器单元,其可操作地及可通信地耦合到该多区热感测单元及该多区热调节单元。该热控制器单元从该多区热感测单元接收该检测温度、处理该检测温度资讯,基于该处理过之温度资讯产生温度控制资讯,及将该温度控制资讯传送到该多区热调节单元,以调节该等预先定义区域的温度。
申请公布号 TW200516646 申请公布日期 2005.05.16
申请号 TW093127517 申请日期 2004.09.10
申请人 ASML控股公司 发明人 卡杉达M 欧温;温恩T 泰尔;斯迪汉 爱瓦德 辛克威兹
分类号 H01L21/027;G03F7/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰