发明名称 气体供应组件
摘要 一种气体供应组件,至少包括外管、气体供应管以及光学侦测器。其中,气体供应管嵌入于外管中,其包括一气体出口端及一气体入口端。此外,光学侦测器配置在外管与气体供应管之间,而且此光学侦测器系用来侦测气体供应管之透光率变化。因此,藉由此光学侦测器可以侦测到气体供应管是否有漏气的现象。
申请公布号 TWM264647 申请公布日期 2005.05.11
申请号 TW093215570 申请日期 2004.10.01
申请人 茂德科技股份有限公司 发明人 洪昌贤
分类号 H01L23/02 主分类号 H01L23/02
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 1.一种气体供应组件(Module),至少包括:一外管;一气体供应管(Tube),嵌入于该外管中,且该气体供应管包括一气体入口端与一气体出口端;以及一光学侦测器,配置在该外管与该气体供应管之间,而且该光学侦测器系用来侦测该气体供应管之透光率的变化。2.如申请专利范围第1项所述之气体供应组件,其中该光学侦测器系由一讯号发射器与一讯号接收器所构成。3.如申请专利范围第1项所述之气体供应组件,其中该气体供应组件适于化学气相沈积设备中。4.如申请专利范围第3项所述之气体供应组件,其中该外管的材质为陶瓷。5.如申请专利范围第3项所述之气体供应组件,其中该光学侦测器配置在该气体供应管的该气体出口端。6.如申请专利范围第1项所述之气体供应组件,其中该气体供应管的材质包括石英。7.如申请专利范围第1项所述之气体供应组件,更包括一壳体,且该外管系嵌入该壳体中。8.一种气体供应组件,至少包括:多数个外管;多数个气体供应管,嵌入于所对应之各该外管中,且各该气体供应管包括一气体入口端与一气体出口端;以及多数个光学侦测器,配置在所对应之各该外管与各该气体供应管之间,而且各该光学侦测器系用来侦测所对应之各该气体供应管之透光率的变化。9.如申请专利范围第8项所述之气体供应组件,其中各该光学侦测器系由一讯号发射器与一讯号接收器所构成。10.如申请专利范围第8项所述之气体供应组件,其中该气体供应组件适于化学气相沈积设备中。11.如申请专利范围第10项所述之气体供应组件,其中各该外管的材质为陶瓷。12.如申请专利范围第10项所述之气体供应组件,其中各该光学侦测器配置在所对应之各该气体供应管的该气体出口端。13.如申请专利范围第8项所述之气体供应组件,其中各该气体供应管的材质包括石英。14.如申请专利范围第8项所述之气体供应组件,更包括一壳体,且该些外管系嵌入该壳体中。图式简单说明:图1绘示为一化学气相沈积反应室及其上之气体供应组件的上视示意图。图2绘示为图1之气体供应组件其内部构造分解示意图。图3绘示为依照本创作一较佳实施例之气体供应组件的剖面示意图。图4绘示为图3之气体供应组件的另一剖面示意图。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路19号3楼