| 主权项 |
1.一种活动式可调整足底高低之矫正装置,其包括有踩踏元件与复数块矫正块;其中,踩踏元件的一面的两端形成有脚掌区与脚跟区,矫正块分别设置于脚掌区与脚跟区。2.如申请专利范围第1项所述之活动式可调整足底高低之矫正装置,其中踩踏元件的脚掌区与脚跟区间形成有足弓区,于足弓区设有矫正块。3.如申请专利范围第2项所述之活动式可调整足底高低之矫正装置,其中矫正块具有顶面、底面与侧弧面,顶面相对于底面为一弧面,侧弧面是位于顶面与底面之间,并且侧弧面与踩踏元件的边缘切齐。4.如申请专利范围第3项所述之活动式可调整足底高低之矫正装置,其中矫正块分别为第一矫正块、第二矫正块、足弓矫正块、第三矫正块与第四矫正块;第一矫正块与第二矫正块可设置于脚掌区二侧,并且彼此相对;足弓矫正块是设置于足弓区;第三矫正块与第四矫正块可设置于脚跟区二侧,并且彼此相对。5.如申请专利范围第4项所述之活动式可调整足底高低之矫正装置,其中矫正块的顶面叠设有复数个辅助块。6.如申请专利范围第5项所述之活动式可调整足底高低之矫正装置,其中每一辅助块具有顶弧面、底弧面与辅侧弧面,辅侧弧面与矫正块的侧弧面切齐,底弧面的弧度等于矫正块顶面的弧度,而顶弧面的弧度等于底弧面的弧度。7.如申请专利范围第6项所述之活动式可调整足底高低之矫正装置,其中脚掌区设有复数个前固定孔,足弓区设有复数个中固定孔,脚跟区设有复数个后固定孔;矫正块的一面固设有固定柱,固定柱可分别与前述之固定孔固定。8.如申请专利范围第6项所述之活动式可调整足底高低之矫正装置,其中踩踏元件的一面与矫正块的一面之间设有可相互黏合的魔鬼毡。9.如申请专利范围第6项所述之活动式可调整足底高低之矫正装置,其中踩踏元件的一面与矫正块的一面之间是相互黏合。10.如申请专利范围第1、2、3、4、5、6、7、8或9项所述之活动式可调整足底高低之矫正装置,其中踩踏元件为鞋垫。11.如申请专利范围第1、2、3、4、5、6、7、8或9项所述之活动式可调整足底高低之矫正装置,其中踩踏元件为鞋子的鞋体。图式简单说明:第一图系本创作之立体分解图。第二图系本创作之立体外观图。第三图系本创作与辅助块之结合剖面图。第四图系本创作之第二实施例之局部剖面图。第五图系本创作之第三实施例之局部剖面图。第六图系本创作之第四实施例之立体外观图。第七图系本创作之第五实施例之立体外观图。 |
