发明名称 薄膜涂布装置及涂布方法
摘要 一种薄膜涂布装置,用以涂布一薄膜于至少两基板上。该薄膜涂布装置包含至少两平台及一喷嘴。该平台系承载且固定该基板。该喷嘴系相对于该两基板移动,藉此涂布该薄膜于该两基板上。
申请公布号 TWI232491 申请公布日期 2005.05.11
申请号 TW093101772 申请日期 2004.01.27
申请人 奇美电子股份有限公司 发明人 丁景隆;黄俊良
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项 1.一种薄膜涂布装置,用以涂布一薄膜于至少两基板上,其包含:至少两个作业区域,分别用以配置该基板;以及至少一个喷嘴,分别与该作业区域相对移动,藉此均匀涂布该薄膜于该基板上。2.依申请专利范围第1项之薄膜涂布装置,另包含:至少一等待区,用以停留该喷嘴。3.依申请专利范围第1项之薄膜涂布装置,其中该喷嘴具有一线状狭缝之出口。4.依申请专利范围第1项之薄膜涂布装置,其中该薄膜系由光阻薄膜、彩色滤光片薄膜、黑色矩阵(black matrix)薄膜、喷射墨水薄膜(ink jet)及光间隙子薄膜所构成之群组中选出。5.一种薄膜涂布方法,包含下列步骤:提供一第一及第二基板及一第一及第二平台,用以分别承载且固定该第一及第二基板;提供一喷嘴,定位于一第一定位点上;移动该喷嘴,并于该第一基板上涂布一薄膜;移动该喷嘴,并于该第二基板上涂布一薄膜,至一第二定位点;以及移动该喷嘴,由该第二定位点至该第一定位点。6.一种薄膜涂布方法,包含下列步骤:提供一第一及第二基板及一第一及第二平台,用以分别承载且固定该第一及第二基板;提供一喷嘴,定位于一第一定位点;移动该喷嘴,并于该第一平台上之该基板上涂布一薄膜,至一第二定位点;移动该喷嘴至该第一定位点;移动该喷嘴,并于该第二平台上之该基板上涂布一薄膜,至一第三定位点;以及将该喷嘴移动至该第一定位点。7.依申请专利范围第5或6项之薄膜涂布方法,另包含下列步骤:提供一机械手臂,用以载入及载出该基板,其中于该喷嘴于该第一及第二平台两者之一者上时,该机械手臂用以载入或载出该第一及第二平台两者之另一者上之该基板。8.依申请专利范围第6项之薄膜涂布方法,另包含下列步骤:提供一预先清洗装置,用以预先清洗该基板。9.依申请专利范围第8项之薄膜涂布方法,其中该预先清洗装置系为电浆或紫外光装置之一者。10.依申请专利范围第6项之薄膜涂布方法,另包含下列步骤:提供一清洗装置,用以清洗该基板。11.依申请专利范围第10项之薄膜涂布方法,其中该清洗装置系由刷洗、高压水柱喷洗、超音波洗净及空气刀乾燥等方式所组成之群组中选出。12.依申请专利范围第6项之薄膜涂布方法,另包含下列步骤:提供一加热装置,用以加热该基板。13.依申请专利范围第6项之薄膜涂布方法,另包含下列步骤:将该基板运送至一缓冲区,用以抽取包含于该薄膜内之溶剂。14.依申请专利范围第6项之薄膜涂布方法,另包含下列步骤:提供一加热装置,用以烘乾该薄膜。15.依申请专利范围第6项之薄膜涂布方法,另包含下列步骤:提供一黏着层喷洒装置,用以喷洒一黏着层于该基板上。16.一种薄膜涂布方法,包含下列步骤:提供一基板匣;配置复数个基板于该基板匣中;提供一预先清洗装置,用以预先清洗该基板;提供一清洗装置,用以清洗该基板;提供一第一及第二平台,用以分别承载且固定该基板;提供一喷嘴,定位于一第一定位点;移动该喷嘴,并于该第一平台上之该基板上涂布一薄膜,至一第二定位点;移动该喷嘴至该第一定位点;移动该喷嘴,并于该第二平台上之该基板上涂布一薄膜,至一第三定位点;将该喷嘴移动至该第一定位点;提供一机械手臂,用以载入及载出该基板,其中于该喷嘴于该第一及第二平台两者之一者上时,该机械手臂用以载入或载出该第一及第二平台两者之另一者上之该基板;将该基板运送至一缓冲区,用以抽取包含于该薄膜内之溶剂;烘乾该薄膜;以及将该基板运送至该基板匣。17.依申请专利范围第16项之薄膜涂布方法,其中该预先清洗装置系为电浆或紫外光装置之一者。18.依申请专利范围第16项之薄膜涂布方法,其中该清洗装置系由刷洗、高压水柱喷洗、超音波洗净及空气刀乾燥等方式所组成之群组中选出。19.依申请专利范围第16项之薄膜涂布方法,另包含下列步骤:提供一黏着层喷洒装置,用以喷洒一黏着层于该基板上。20.一种薄膜涂布装置,用以涂布一薄膜,其包含:n个作业区域,可分别承载至少一个基板,其中n系为整数;以及m个喷嘴,相对于该n个作业区域移动,藉此涂布该薄膜于该作业区域上之该基板上,其中m为整数,且1≦m<n。21.一种薄膜涂布方法,包含下列步骤:提供复数个基板;提供复数个个平台,用以承载该复数个基板;提供至少一喷嘴,定位于一第一定位点上;移动该喷嘴,并依序于该复数个基板上涂布一薄膜,至一第二定位点;以及移动该喷嘴,由该第二定位点至该第一定位点。22.一种显示装置,包含:一第一基板;一第二基板,与该第一基板相对配置;以及至少一薄膜层,设置于该第一基板上;其中该薄膜系藉由一薄膜涂布装置涂布于该第一基板上,且该薄膜涂布装置包含至少两个作业区域,用以承载该第一基板,以及至少一个喷嘴,可分别与该作业区域相对移动,用以涂布该薄膜。23.依申请专利范围第22项之显示装置,其中该显示装置系为一液晶显示器。24.依申请专利范围第22项之显示装置,其中该显示装置系为一有机发光二极体显示面板。图式简单说明:第1图为先前技术之光阻涂布设备之结构示意图。第2图为先前技术之光阻涂布装置之立体示意图。第3a及3b图为先前技术之光阻涂布制程之剖面示意图。第4图为根据本发明之一实施例之光阻涂布装置之立体示意图。第5a及5b图为根据本发明之第一实施例之光阻涂布制程之剖面示意图。第6a及6b图为根据本发明之第二实施例之光阻涂布制程之剖面示意图。第7a及7b图为根据本发明之第三实施例之光阻涂布制程之剖面示意图。第8a及8b图为根据本发明之另一实施例之光阻涂布制程之剖面示意图。第9图为根据本发明之一实施例之光阻涂布设备之结构示意图。
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