发明名称 光学记录媒体以及此种光学记录媒体之使用
摘要 此种光学记录媒体(20)具有一基板(1),并且提供一堆叠的层(2)于其上。一相位变化记录层(5)具有一熔点Tmp,夹在一第一(3)和一第二(7)介电质层之间。一结晶加速层(4,6)插入并接触该记录层(5),进一步地还有一反射层(8)以及一可选择的覆盖层(9)。该结晶加速层(4,6)是由一两种金属之合金或一半导体组成,并且具有一熔点Tmp,至少比该记录层(5)的熔点Tmp高摄氏250度,其具有一晶体结构相似于该记录层(5)的结晶状态。
申请公布号 TWI232446 申请公布日期 2005.05.11
申请号 TW090110238 申请日期 2001.04.30
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 周国富
分类号 G11B7/24 主分类号 G11B7/24
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种光学记录媒体(20),其具有一基板(1)与一堆叠(2)的层于其上,该堆叠包括一记录层,一反射层(8),一结晶加速层(4,6),一第一介电质层(3)及一第二介电质层(7),该基板对于一雷射光束系光学可透射,该记录层具有一熔点Tmp且能够在一非结晶与一结晶状态之间变化,该记录层系夹在该第一与第二介电质层之间,该记录层系直接机械式地相邻于该第一介电质层,该第一介电质层系直接机械式地相邻于该基板,该结晶加速层系相邻于该记录层,该记录层系夹在该第一介电质层与该结晶加速层之间,该结晶加速层(4,6)的特征在于-包括一种从两种金属之合金、半导体元素、和半导体合金所组成之群中所选取的物质,并且-具有一熔点Tmg,其至少比该记录层(5)的熔点Tmp高摄氏250度,以及-具有一相似于该记录层(5)结晶状态的晶体结构。2.如申请专利范围第1项之光学记录媒体(20),其特征在于该结晶加速层(4,6)包括一种从PbTe, Ag2Te, CrTe, Ge和Si群中选取的物质。3.如申请专利范围第1项之光学记录媒体(20),其特征在于该结晶加速层(6)系安排在该记录层(5)与该第二介电质层(7)中间。4.如申请专利范围第3项之光学记录媒体(20),其特征在于一类似于该结晶加速层(6)的第二结晶加速层(4),其系安排在该记录层(5)和该第一介电质层中间(3)。5.如申请专利范围第4项之光学记录媒体(20),其特征在于该第二结晶加速层(4)系实质上与该结晶加速层(6)有相同的厚度和组成。6.如申请专利范围第1项之光学记录媒体(20),其特征在于该记录层(5)包括一种含有Q, In, Sb和Te的合金,其中Q是从Ag和Ge群中选取的。7.如申请专利范围第1项之光学记录媒体(20),其特征在于该记录层(5)包括一种含有Ge, Sb和Te的合金。8.如申请专利范围第1项之光学记录媒体(20),其特征在于该反射层(8)是在该基板(1)与该第一介电质层(3)之间。9.如申请专利范围第1项之光学记录媒体(20),其特征在于该媒体相对于一雷射光束(10)的直线速度,至少为每秒7.2米(7.2m/s)。图式简单说明:图1显示该光学记录媒体的一第一具体实施例之纵向截面绘示图。图2显示一第二具体实施例如图1呈现之截面绘示图。图3显示一第三具体实施例如图2呈现之截面绘示图。
地址 荷兰