| 主权项 |
1.一种抑震装置(aseismatic device),该抑震装置包含有 : 一弹簧销(spring pin),包含有至少一弹簧设于该弹簧 销内;以及 一定位球体(positioning ball),该定位球体系利用该弹 簧之弹力固定于一平台(platform)表面上之一凹槽( cavity)内; 其中该弹簧销可藉由调整内部弹簧之数目以决定 一水平抑震设定値,当该抑震装置所受之水平力量 大于该水平抑震设定値时,该定位球体会横移出该 凹槽以吸收该水平力量,藉以发挥抑震效果。 2.如申请专利范围第1项之抑震装置,其中该抑震装 置系应用于一高架式晶片运输(OHT)系统中,以强化 该高架式晶片运输系统的抑震功能。 3.如申请专利范围第2项之抑震装置,其中该平台系 为该高架式晶片运输系统之一第一平台,且该高架 式晶片运输系统另包含有一第二平台上,该第二平 台系位于该第一平台上并利用该第一平台支撑其 重量,且该第二平台下表面部分与该第一平台上表 面相接触。 4.如申请专利范围第3项之抑震装置,其中该弹簧销 系设置于该第二平台上相对于该第一平台上之该 凹槽的位置,且该弹簧销贯穿并固定于该第二平台 上。 5.如申请专利范围第3项之抑震装置,其中该第一平 台系利用复数个第一支撑杆(first supporting rod)固定 于一组悬吊桁架下方,并利用该等支撑杆支撑其重 量。 6.如申请专利范围第5项之抑震装置,其中该组悬吊 桁架系固定于一建筑物之天花板上。 7.如申请专利范围第3项之抑震装置,其中该第一平 台包含有复数个第二支撑杆(second supporting rod),用 以悬挂支撑一重物。 8.如申请专利范围第7项之抑震装置,其中该重物系 为一输送轨道,用以提供一可输送晶片之吊车运动 之轨道。 9.如申请专利范围第3项所述之抑震装置,其中该第 一平台系为一长方形之结构,且其较长之侧边系朝 向一第一方向。 10.如申请专利范围第9项所述之抑震装置,其中该 第二平台系为一长方形之结构,且其较长之侧边系 朝向一与该第一方向垂直之第二方向。 11.如申请专利范围第1项所述之抑震装置,其中该 凹槽系为一圆椎状凹槽。 12.如申请专利范围第11项所述之抑震装置,其中该 凹槽之侧壁包含有一第一倾斜角度及一第二倾斜 角度。 13.如申请专利范围第3项所述之抑震装置,其中当 该第二平台因受一水平力量而产生水平方向之运 动后,该第二平台可藉由一外力恢复其位置以继续 发挥该抑震装置之功能。 14.一种抑震高架式晶片运输系统(overhead hoist transport system),该抑震高架式晶片运输系统包含有: 一组悬吊桁架(hoist truss),固定于一建筑物之天花 板上; 一第一平台(first platform),利用复数个第一支撑杆( first supporting rod)固定于该组悬吊桁架下方并利用 该等第一支撑杆支撑其重量,且该第一平台之上表 面包含有一凹槽(cavity); 一第二平台(second platform),位于该第一平台上方并 利用该第一平台支撑其重量,且该第二平台部分与 该第一平台相接触; 至少一抑震装置(aseismatic device),设置于该组悬吊 桁架下方,且该抑震装置包含有: 至少一弹簧销(spring pin),设置于该第二平台上相对 于该第一平台上该凹槽之位置并贯穿该第二平台, 且该弹簧销包含有至少一弹簧(spring)设于该弹簧 销内; 一定位球体(positioning ball),该定位球体系利用该弹 簧之弹力固定于该凹槽内,以使该第一平台及该第 二平台维持固定之相对位置;以及 一输送轨道(track),位于该第一平台下方并利用复 数个第二支撑杆(second supporting rod)支撑其重量且 固定于该第二平台,用以提供一可输送晶片之吊车 运动的轨道; 其中该弹簧销可藉由调整内部弹簧之数目以决定 水平抑震设定値,当该高架式晶片运输系统所受之 水平力量大于该水平抑震设定値时,该定位球体会 横移出该凹槽,使该第二平台产生相对应于该第一 平台之水平方向运动以避免该高架式晶片运输系 统受损。 15.如申请专利范围第14项所述之抑震高架式晶片 运输系统,其中该第一平台系为一长方形之结构, 且其较长之侧边系朝向一第一方向。 16.如申请专利范围第15项所述之抑震高架式晶片 运输系统,其中该第二平台系为一长方形之结构, 且其较长之侧边系朝向一与该第一方向垂直之第 二方向。 17.如申请专利范围第14项所述之抑震高架式晶片 运输系统,其中该凹槽系为一圆椎状凹槽。 18.如申请专利范围第17项所述之抑震高架式晶片 运输系统,其中该凹槽之侧壁包含有一第一倾斜角 度及一第二倾斜角度。 19.如申请专利范围第14项所述之抑震高架式晶片 运输系统,其中当该第二平台因受一水平力而产生 水平方向之运动后,该第二平台可藉由一外力恢复 其位置以继续发挥该抑震装置之功能。 图式简单说明: 图一为习知一晶圆厂及其高架式晶片运输系统之 示意图。 图二为习知高架式晶片运输系统之示意图。 图三为本发明抑震装置运用于一高架式晶片运输 系统之示意图。 图四为本发明抑震装置之示意图。 图五为本发明抑震装置所受水平力量大于一抑震 设定値时之示意图。 图六为本发明另一实施例凹槽结构之示意图。 |
