发明名称 投影校准器
摘要 一种投影校准器,其可将形成于光罩上的光罩图案转移至一基板上。准直光束会从一光源射向该光罩。穿过该光罩的光束会被形成于一偏向器上的第一镜面偏转,朝具有正倍率的透镜单元偏移。在该透镜单元的另一侧具备一反射器,用以将穿过该透镜单元的光束反射回去。被反射器反射的光束会穿过该透镜单元,并且会被形成于该偏向器上的第二镜面偏转朝该基板偏移,以便形成该光罩图案的影像。形成于该基板上的影像尺寸可藉由下面的方式来调整:沿着该透镜单元的光轴移动该反射器,以及沿着穿过该光罩之光束的光学路径移动该偏向器。
申请公布号 TWI232348 申请公布日期 2005.05.11
申请号 TW091137348 申请日期 2002.12.25
申请人 宾得士股份有限公司 发明人 小林 义则;石桥 臣友;原 正人
分类号 G03B27/16;G03B27/70;G03B27/32 主分类号 G03B27/16
代理机构 代理人 陈传岳 台北市大安区仁爱路3段136号15楼
主权项 1.一种可将具有预设图案的光罩影像转移至欲进 行曝光之物体上的投影校准器,该投影校准器包括 : 光源,其会朝该光罩发出准直光束,用以照射该光 罩; 光学系统,其可将光束穿过该光罩投影至该物体上 ,用以在该物体上形成该光罩的影像;及 影像放大/缩小系统,其会改变该光学系统的放大 倍数,以改变被投影于该物体上的物体大小, 其中该光学系统包括: 第一镜面,其会偏转该光源所发出且穿过该光罩的 光束; 具正倍率的透镜单元,由该第一镜面偏转的光束会 入射于该透镜单元上; 反射器,其可反射穿过该透镜单元的光束,让被反 射的光束入射于该透镜单元上;及 第二镜面,其会偏转被该反射器反射且穿过该透镜 单元的光束,被该第二镜面偏转的光束会入射于该 物体上,该物体系被排列成平行该光罩,影像则系 形成于该物体上; 其中该影像放大/缩小系统包括: 反射器驱动机构,其会沿着该透镜单元的光轴移动 该反射器;及 位置调整器,其会调整该第一镜面及第二镜面的位 置,用以将该光罩及该物体从该透镜单元的焦点移 出,并且保持该光罩及该物体相对于该透镜单元的 共轭关系。 2.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该位置 调整器会沿着从该光罩朝该偏向器前进之光束的 光学路径移动该第一镜面及第二镜面。 3.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该影像 放大/缩小系统包括大小比例决定器,用以决定该 物体对该光罩的大小比例。 4.如申请专利范围第3项之投影校准器,其中该大小 比例决定器包括: 物体大小测量构件,用以沿着第一方向测量形成于 该物体上的两个标记之间的距离,以及用以沿着第 二方向测量形成于该物体上的两个标记之间的距 离,该第二方向垂直于该第一方向; 光罩大小测量构件,用以沿着该第一方向测量形成 于该光罩上的两个标记之间的距离,以及用以沿着 该第二方向测量形成于该光罩上的两个标记之间 的距离;及 处理器,用以依照该物体大小测量构件及该光罩大 小测量构件的测量结果,决定该物体对该光罩的大 小比例。 5.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该第一 镜面与该第二镜面系整合于单一构件中。 6.如申请专利范围第5项之投影校准器,其包括三角 形棱镜,该棱镜的切面系等腰直角三角形,该第一 镜面及第二镜面系形成于该三角形棱镜中呈直角 的侧面上。 7.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该反射 器系为顶置镜,其反射表面系被排列成垂直于该光 罩。 8.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该反射 器系为矩形棱镜,其可利用被排列成垂直于该光罩 的矩形表面于内部反射该光束。 9.一种投影校准器,可将形成于光罩上的图案影像 转移至欲进行曝光之物体上,该投影校准器包括: 光源,其会经由该光罩朝该物体发出光束; 具正倍率的透镜单元; 反射器,其系配备于该透镜单元的其中一侧,用以 将穿过该透镜单元的光束反射回去;及 偏向器,其系于该透镜单元的另一侧插入于穿过该 光罩之光束的光学路径上,该偏向器具有第一镜面 及第二镜面,该两个镜面会以彼此相对的方向倾斜 于该透镜单元的光轴,该第一镜面系被排列成用以 偏转从该光罩穿过该透镜单元朝该反射器移动的 光束,该第二镜面系被排列成用以偏转被该反射器 反射且穿过该透镜单元朝该物体移动的光束, 其中该反射器系以可移动的方式固定于该透镜单 元的光轴上,及 其中该偏向器系以可移动的方式固定于从该光罩 朝该偏向器前进之光束的光学路径上。 10.如申请专利范围第9项之投影校准器,其中该第 一镜面与该第二镜面系整合于单一构件中。 11.如申请专利范围第10项之投影校准器,其包括三 角形棱镜,该棱镜的切面系等腰直角三角形,该第 一镜面及第二镜面系形成于该三角形棱镜中呈直 角的侧面上。 12.如申请专利范围第9项之投影校准器,其中该反 射器系为顶置镜,其反射表面系被排列成垂直于该 光罩。 13.如申请专利范围第9项之投影校准器,其中该反 射器系为矩形棱镜,其可利用被排列成垂直于该光 罩的矩形表面于内部反射该光束。 图式简单说明: 第一图为根据本发明一具体实施例的投影校准器 构造的示意图; 第二图为第一图所示投影校准器的基板高度侦测 单元构造的示意图; 第三图为第一图所示投影校准器的侧视示意图; 第四图为第一图所示投影校准器的光罩的上视示 意图; 第五图为由第一图所示投影校准器曝光的基板的 上视示意图; 第六图为根据本发明一具体实施例的具有复数个 光罩位置侦测器及复数个物体位置侦测器的投影 校准器的概念示意图; 第七图为光线通过透镜单元及由第一图所示投影 校准器的顶置镜反射的示意图; 第八图为第一图所示投影校准器内光线从光罩射 向基板的示意图; 第九图为投影校准器内光束投影在基板的示意图, 其中调整投影光学系统以放大投影在基板上的影 像; 第十图及第十一图为第一图所示投影校准器在影 像位置获得调整之前及之后光线从光罩射向基板 的示意图;及 第十二图为投影校准器内光束从光源投影在基板 的示意图,其中影像位置调整已经完成。
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