| 主权项 |
1.一种投影校准器,用于在第一方向上扫描复数个 光束在光罩上,以藉由通过该光罩的光束来转移在 该光罩上形成的图案之影像到该物体上,该投影校 准器包含: 复数个光学系统,每个光学系统投影通过该光罩的 不同一个光束到该物体上,以转换在该光罩上该图 案影像之不同部份到该物体; 其中每个光学系统包含: 具有正倍率的透镜单元,该透镜单元具有一光学轴 平行于该第一方向; 反射器,提供给该透镜单元之一侧以反射回去通过 该透镜单元的光线,该反射器系可移动地支撑在该 第一方向及第二方向上,该第二方向系平行于该物 体并垂直于该第一方向;及 偏向器,提供给该透镜单元的另一侧,该偏向器具 有第一镜面及第二镜面,该第一镜面偏向通过该光 罩的光束朝向该反射器而通过该透镜单元,该第二 镜面偏向由该反射器所反射的光束,并通过该透镜 单元朝向该物体,该偏向器系在垂直于该物体的一 方向上可移动地支撑。 2.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该偏向 器为三角形棱镜,其为等腰直角三角形,该第一镜 面及第二镜面系形成在该三角形棱镜所形成直角 的侧面上。 3.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该反射 器系位在该透镜单元的焦点附近。 4.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该反射 器为顶置镜,其反射表面系配置成垂直于该光罩。 5.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该反射 器为一长方形棱镜,由其长方形表面在内部反射该 光束,该长方形表面系配置成垂直于该光罩。 6.如申请专利范围第1项之投影校准器,进一步包括 : 复数个反射器驱动机构,用于同时在该第一方向及 该第二方向上移动个别的反射器; 复数个偏向器驱动机构,用于在垂直于该物体的方 向上移动个别的偏向器; 尺寸侦测器,用于侦测该物体的尺寸; 控制器,操作该反射器驱动机构,该反射器驱动机 构系根据该尺寸侦测器的侦测来调整由每个光束 在该物体上所形成的该影像大小。 7.如申请专利范围第6项之投影校准器,其中该尺寸 侦测器包含: 摄影机,用于补捉该物体的影像;及 影像处理器,用于由该摄影机所补捉到的影像来决 定该物体的尺寸。 8.如申请专利范围第7项之投影校准器,其中该尺寸 侦测器基于在该物体上所形成的校准标记来决定 该物体的尺寸。 9.如申请专利范围第6项之投影校准器,其中该尺寸 侦测器包含: 第一摄影机,用于补捉该物体的影像; 第二摄影机,用于补捉该光罩的影像;及 影像处理器,其适用于由该第一摄影机及第二摄影 机所补捉到的影像来决定该物体及该光罩的尺寸, 及 其中该控制器基于该物体的尺寸对于该光罩尺寸 的比値来决定该光学系统的放大率。 10.如申请专利范围第9项之投影校准器,其中该影 像处理器分别基于在该物体及该光罩上所形成的 校准标记来决定该物体及该光罩的尺寸。 图式简单说明: 第一图为根据本发明一具体实施例的投影校准器 构造的示意图; 第二图为第一图所示投影校准器的基板高度侦测 单元构造的示意图; 第三图为第一图所示投影校准器的侧视示意图; 第四图为第一图所示投影校准器的光罩的上视示 意图; 第五图为由第一图所示投影校准器曝光的基板的 上视示意图; 第六图为根据本发明一具体实施例的具有复数个 光罩位置侦测器及复数个物体位置侦测器的投影 校准器的概念示意图; 第七图为光线通过透镜单元及由第一图所示投影 校准器的顶置镜反射的示意图; 第八图为第一图所示投影校准器内光线从光罩射 向基板的示意图; 第九图为投影校准器内光束投影在基板的示意图, 其中调整投影光学系统以放大投影在基板上的影 像; 第十图及第十一图为第一图所示投影校准器在影 像位置获得调整之前及之后光线从光罩射向基板 的示意图;及 第十二图为投影校准器内光束从光源投影在基板 的示意图,其中影像位置调整已经完成。 |
