有机－无机杂化纳米抗磨损、刻化保护膜

摘要

有机－无机杂化纳米抗磨损、刻划保护膜，用于树脂镜片。该保护膜是按照下述原料配比及方法制得：第一步，利用溶胶－凝胶法水解缩合三甲氧基硅烷类与正硅酸四乙酯的混合物，合成稳定的SiO₂-SSO无机纳米结构颗粒，此步合成条件：稀释溶剂为四氢呋喃或醇，稀释比例为3∶1；催化剂用甲酸HCOOH和水H₂O，HCOOH∶Si＝3～6，H₂O∶Si＝0.16～3；合成温度为25～70℃；第二步，向反应体系中加入活性交联剂和稀释溶剂，稀释比例为3～5∶1；树脂镜片采用浸涂法，固化后可形成网状保护膜。

主权项

1.一种有机-无机杂化纳米抗磨损、刻划保护膜，由以下步骤制备：第一步，按重量份计，80-95％重量份的3-(2，3-环氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷或3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷与5-20％的重量份的正硅酸乙酯的混合物通过溶胶—凝胶法水解缩合；其中稀释溶剂为乙醇或四氢呋喃，稀释比例为3∶1；催化剂用甲酸HCOOH和水H2O，HCOOH∶Si＝3-6，H2O∶Si＝0.16-3；合成温度为25-70℃；反应持续过程中，用凝胶色谱监测，得到3-(2，3-环氧丙氧基)丙基倍半氧硅烷或3-(甲基丙烯酰氧)丙基倍半氧硅烷粘稠液；第二步，向粘稠液中加入选自己二胺、过氧化苯甲酰、苯基缩水甘油醚的活性交联剂和选自四氢呋喃或乙醇的稀释溶剂，其中3-(2，3-环氧丙氧基)丙基倍半氧硅烷或3-(甲基丙烯酰氧)丙基倍半氧硅烷与活性交联剂的摩尔比为2，稀释比例为3-5；树脂镜片采用浸涂法，浸入/浸出的速度为27cm/min，加温固化，在80～150℃固化1-24小时。