发明名称 高频用磁性薄膜、复合磁性薄膜和使用它们的磁性元件
摘要 本发明提供一种高频用磁性薄膜,其中,含有由T-L组合物构成的第1层,其中T是Fe或FeCo、L是C、B和N之中的1种、2种或以上、和在上述第1层的任意的面上被配置的由Co系非晶质合金构成的第2层。本发明的高频用磁性薄膜,通过层叠、优选交替地层叠了多个第1层和多个第2层的多层膜结构构成为好。本发明的高频用磁性薄膜,能够得到在1GHz下的复数磁导率的实数部(μ’)为400或以上、并且性能指数Q(Q=μ’/μ”)为4或以上、饱和磁化为14kG(1.4T)或以上的特性。
申请公布号 CN1615529A 申请公布日期 2005.05.11
申请号 CN03802283.4 申请日期 2003.01.10
申请人 TDK株式会社 发明人 崔京九;村濑;山崎阳太郎
分类号 H01F10/16 主分类号 H01F10/16
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 陈建全
主权项 1.一种高频用磁性薄膜,其中,含有由T-L组合物构成的第1层,其中T是Fe或FeCo、L是C、B和N之中的1种、2种或以上、和在所述第1层的任意的面上被配置的由Co系非晶质合金构成的第2层。
地址 日本东京都