Trench etching using borosilicate glass mask,申请号EP19980309900-传众专利搜索

发明名称	Trench etching using borosilicate glass mask
摘要
申请公布号	EP0932187(B1)	申请公布日期	2005.05.11
申请号	EP19980309900	申请日期	1998.12.03
申请人	INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION;INFINEON TECHNOLOGIES AG;KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA	发明人	ILG, MATTHIAS;KLEINHENZ, RICHARD L.;NADAHARA, SOICHI;NUNEZ, RONALD W.;PENNER, KLAUS;ROITHNER, KLAUS;SRINIVASAN, RADHIKA;SUGIMOTO, SHIGEKI
分类号	H01L21/76;H01L21/308;H01L21/822;H01L21/8242;H01L27/04;H01L27/108;(IPC1-7):H01L21/308	主分类号	H01L21/76
代理机构		代理人
主权项
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