| 发明名称 | 化学机械抛光垫 | ||
| 摘要 | 一种化学机械抛光垫，其具有用于抛光待抛光物体的一个表面、与该表面相对的一个非抛光表面以及用于连接上述表面的一个侧面，并且其包括凹入部分的图案，它在非抛光表面上形成并开口于非抛光表面而不是侧面。 | ||
| 申请公布号 | CN1614749A | 申请公布日期 | 2005.05.11 |
| 申请号 | CN200410090362.0 | 申请日期 | 2004.11.04 |
| 申请人 | JSR株式会社 | 发明人 | 宫内裕之;志保浩司;川桥信夫 |
| 分类号 | H01L21/304;B24B37/00 | 主分类号 | H01L21/304 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 韦欣华;庞立志 |
| 主权项 | 1.一种化学机械抛光垫，其具有用于抛光待抛光物体的一个表面、与该表面相对的一个非抛光表面以及用于连接上述表面的一个侧面，并且其包括凹入部分的图案，它在非抛光表面上形成并开口于非抛光表面而不是侧面。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||