发明名称 |
使用第一最小值底部抗反射涂层组合物制备图像的方法 |
摘要 |
本发明公开一种在衬底上形成图像的方法,其包括以下步骤:(a)在衬底上涂覆第一层辐射敏感性抗反射组合物;(b)将第二层光刻胶组合物涂覆到第一层抗反射组合物上;(c)选择性地将得自步骤(b)的涂覆衬底在光化辐射下曝光;和(d)将得自步骤(c)的经曝光的涂覆衬底显影以形成图像;其中,将光刻胶组合物和抗反射组合物都在步骤(c)中曝光;使用单一的显影剂在步骤(d)中将两者都显影;其中步骤(a)的抗反射组合物是第一最小值底部抗反射涂层(B.A.R.C.)组合物,具有的固含量最高至约8%固体分,并且涂覆衬底的最大涂层厚度为[λ/2n],其中λ为步骤(c)中光化辐射的波长,且n为B.A.R.C.组合物的折射率。 |
申请公布号 |
CN1615459A |
申请公布日期 |
2005.05.11 |
申请号 |
CN03802091.2 |
申请日期 |
2003.01.03 |
申请人 |
科莱恩金融(BVI)有限公司 |
发明人 |
M·O·尼瑟尔;J·E·奥伯兰德;M·A·图卡伊;R·萨卡穆里;李丁术季 |
分类号 |
G03F7/09;G03F7/095 |
主分类号 |
G03F7/09 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
刘明海 |
主权项 |
1.一种在衬底上形成图像的方法,其包括以下步骤:(a)在衬底上涂覆第一层辐射敏感性抗反射组合物;(b)将第二层光刻胶组合物涂覆到第一层抗反射组合物上;(c)选择性地将由步骤(b)得到的涂覆衬底在光化辐射下曝光;(d)将由步骤(c)得到的经曝光的涂覆衬底显影以形成图像;其中,将光刻胶组合物和抗反射组合物都在步骤(c)中进行曝光;使用单一的显影剂在步骤(d)中将两者都进行显影;其中步骤(a)的抗反射组合物是第一最小值底部抗反射涂层(B.A.R.C.)组合物,具有的固含量最高至约8%固体分,并且涂覆衬底的最大涂层厚度为λ/2n,其中λ为步骤(c)中光化辐射的波长,且n为B.A.R.C.组合物的折射率。 |
地址 |
英属维尔京群岛托尔托拉 |