发明名称 METHOD AND DEVICE FOR SUBSTRATE ETCHING WITH VERY HIGH POWER INDUCTIVELY COUPLED PLASMA
摘要
申请公布号 EP1529305(A2) 申请公布日期 2005.05.11
申请号 EP20030763951 申请日期 2003.07.10
申请人 ALCATEL 发明人 PUECH, MICHEL
分类号 H05H1/46;H01J37/32;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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