发明名称 集成窄带滤光片
摘要 本发明公开了一种集成窄带滤光片,包括:基片,在基片上依次有相互牢固结合的下层膜系,厚度不等的谐振腔层列阵和上层膜系。本发明的集成窄带滤光片是基于F-P干涉原理,通过半导体刻蚀工艺来获取不同谐振腔层的厚度,达到控制窄带滤光片的带通峰位,从而实现不同透射波长窄带滤光片在同一块基片上的集成。这种滤光片可适用于各个波段窄带滤光片列阵的制备。其优点是:工艺简单,只需设计一个膜系、通过镀膜和刻蚀即可完成集成窄带滤光片的制备,所制备的滤光片各单元的半峰宽很窄,其相对半峰宽都小于0.36%,可以起到很好的波长选择作用。
申请公布号 CN1614451A 申请公布日期 2005.05.11
申请号 CN200410067892.3 申请日期 2004.11.05
申请人 中国科学院上海技术物理研究所 发明人 王少伟;陆卫;陈平平;李宁;张波;李志锋;陈效双
分类号 G02B5/20;G02F1/01 主分类号 G02B5/20
代理机构 上海新天专利代理有限公司 代理人 张泽纯
主权项 1.一种集成窄带滤光片,包括:基片(1),其特征在于:在基片上有一与基片牢固结合的下层膜系(2),在下层膜系上有一与下层膜系牢固结合的厚度不等的谐振腔层列阵(3),在厚度不等的谐振腔层列阵上有一与其牢固结合的上层膜系(4);所说的基片(1)材料为对所要集成的滤光片波段是透明的;所说的上、下层膜系(4、2)相同,均为(LH)5,谐振腔层厚度≥2L,其中H为高折射率膜层,L为低折射率膜层,数值5为高折射率膜层与低折射率膜层交替叠层的次数,膜层的光学厚度:nd为λ0/4,λ0为设计初始窄带滤光片膜系时的中心波长。
地址 200083上海市玉田路500号