| 发明名称 |
METHOD FOR FABRICATING OXIDE LAYER OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
KR20050042707(A) |
申请公布日期 |
2005.05.10 |
| 申请号 |
KR20030077775 |
申请日期 |
2003.11.04 |
| 申请人 |
DONGBU ANAM SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
SHIN, CHUL HO |
| 分类号 |
H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31 |
主分类号 |
H01L21/31 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
