| 发明名称 |
PROJECTION ALIGNER, PROJECTION EXPOSURE METHOD, OPTICAL CLEANING METHOD AND METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1009020(A4) |
申请公布日期 |
2005.05.04 |
| 申请号 |
EP19980933930 |
申请日期 |
1998.07.24 |
| 申请人 |
NIKON CORPORATION |
发明人 |
NEI, MASAHIRO;OGATA, TARO |
| 分类号 |
G03F7/20;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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