| 发明名称 | 等离子体反应用气体、其制备方法和应用 | ||
| 摘要 | 含有碳原子数5或6的链状全氟炔烃、优选全氟－2－戊炔的等离子体反应用气体。该等离子体反应用气体适用于通过干式蚀刻形成微细图案、通过CVD形成薄膜和灰化。上述等离子体反应用气体可通过使二氢氟烷烃化合物或一氢氟烯烃化合物与碱性化合物接触合成。 | ||
| 申请公布号 | CN1613143A | 申请公布日期 | 2005.05.04 |
| 申请号 | CN02826800.8 | 申请日期 | 2002.10.31 |
| 申请人 | 日本瑞翁株式会社 | 发明人 | 菅原充;山田俊郎;杉本达也;田中公章 |
| 分类号 | H01L21/3065 | 主分类号 | H01L21/3065 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 庞立志 |
| 主权项 | 1.等离子体反应用气体，其特征在于含有下式(1)所示化合物： R1-C≡C-R2 (1)式中，R1为氟或碳原子数1-3的全氟烷基或碳原子数2-3的全氟烯基，R2为碳原子数1-4的全氟烷基、碳原子数2-4的全氟烯基或碳原子数2-4的全氟炔基；但R1和R2中的碳原子数合计为3或4，R1和R2可以相同，也可以不同。 | ||
| 地址 | 日本东京千代田区 | ||