发明名称 METHOD FOR FORMING ISOLATION LAYER OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20050041425(A) 申请公布日期 2005.05.04
申请号 KR20030076592 申请日期 2003.10.31
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 EUN, YONG SEOK;JI, YUN HYUCK;JUNG, SUNG HOON;KIM, HYUNG KYUN
分类号 H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/762 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
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