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发明名称 Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号 EP1517188(A3) 申请公布日期 2005.05.04
申请号 EP20040255638 申请日期 2004.09.16
申请人 ASML NETHERLANDS B.V.;ASML HOLDINGS N.V. 发明人 BLEEKER, ARNO JAN;FRANKEN, DOMINICUS JACOBUS PETRUS ADRIANUS;KOCHERSPERGER, PETER C.;TROOST, KARS ZEGER
分类号 G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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