光刻装置

摘要

液体通过入口提供给投影系统最后元件和基底之间的贮液器。溢流口排出给定水平面上方的液体。该溢流口位于入口之上，这样液体就不断更新且液体压力保持基本恒定。

主权项

1、一种光刻投影装置，包括：—用于提供辐射投影光束的辐射系统；—用于支撑构图装置的支撑结构，该构图装置根据所需图案使投影光束带有图案；—用于支撑基底的基底台；—投影系统，用于将带有图案的光束投影至基底的靶部上；以及—液体供给系统，用于将所述投影系统的最后元件和所述基底之间的空间至少部分充满液体，以形成贮液器，其特征在于，还包括来自所述贮液器的溢流口。