| 摘要 |
本发明提供原盘曝光装置和原盘曝光方法，其防止在原盘曝光后已显像的槽(pit)的长度和尺寸的不均一、使最短的槽(pit)和其他槽(pit)的槽(pit)宽均一。其是将具有光阻剂层的感度以上的强度和规定相位的光束(beam)1照射到光阻剂层的规定区域。将具有光阻剂层的感度以下的强度和与上述规定相位反相位的光束(beam)2照射到与上述光阻剂的规定区域不同的区域。再者，在形成最短标记P22的区域的光碟半径方向的两侧P／P(2T)，照射具有上述光阻剂层的感度以下的强度的光束(beam)2。不论槽(pit)的长度如何，槽(pit)的宽度可以形成均一，且因为可以形成比槽(pit)长度还短的宽的槽(pit)，所以能实现高密度化。 |
