曝光一基体之方法及微影投射装置

摘要

本发明揭示一种用于将一基体(W)上之抗蚀剂层曝光至一光罩(MA)上之图案之影像的方法，藉以在开始曝光之后且在完成曝光之前，经由一控制器(100)藉由在曝光期间改变基体固持器(WT)之位置而在该抗蚀剂层处之影像中引入受控量的对比损耗。该对比损耗影响一微影投射装置之解析度之间距相依性，且其控制用于匹配不同微影投射装置间之解析度之间距相依性。