| 摘要 |
本发明系提供解像性高，图型侧壁粗糙较少，具有实用水准之耐蚀刻性，曝光后热处理之温度范围具有充裕度之光阻材料之基质树脂使用的高分子化合物。本发明系提供一种分别含有一种以上之下述一般式(1)～(3)表示之重复单位所成之重量平均分子量为1,000～50,000的高分子化合物及含有该高分子化合物所成之光阻材料。另外提供一种含有：将此光阻材料涂布于基板上的步骤；得之膜进行加热处理的步骤；加热处理后之膜经由光罩，以高能量线或电子线曝光的步骤；该曝光后进行加热处理的步骤；然后，使用显像液进行显像的步骤所成。093126761-p01.bmp |
