发明名称 | 铜的微粗糙处理之改良方法及混合金属电路 | ||
摘要 | 一种改良介电材料对金属层黏附性的方法,包括提供一具有第一主要表面的未图案化金属层;将第一主要表面微粗糙化以形成微粗糙化后的表面;以及将金属层蚀刻以在金属层中形成电路图案,其中微粗糙化系在蚀刻之前进行。 | ||
申请公布号 | TW200514627 | 申请公布日期 | 2005.05.01 |
申请号 | TW093128979 | 申请日期 | 2004.09.24 |
申请人 | 阿托科技股份有限公司 | 发明人 | 哈利 弗尔荷普特;大卫 汤玛斯 巴伦;库迪普 辛福 乔亥尔;派克 保罗 布鲁克斯 |
分类号 | B05D5/02;B08B3/00;B05D7/14 | 主分类号 | B05D5/02 |
代理机构 | 代理人 | 林镒珠 | |
主权项 | |||
地址 | 德国 |