发明名称 铜的微粗糙处理之改良方法及混合金属电路
摘要 一种改良介电材料对金属层黏附性的方法,包括提供一具有第一主要表面的未图案化金属层;将第一主要表面微粗糙化以形成微粗糙化后的表面;以及将金属层蚀刻以在金属层中形成电路图案,其中微粗糙化系在蚀刻之前进行。
申请公布号 TW200514627 申请公布日期 2005.05.01
申请号 TW093128979 申请日期 2004.09.24
申请人 阿托科技股份有限公司 发明人 哈利 弗尔荷普特;大卫 汤玛斯 巴伦;库迪普 辛福 乔亥尔;派克 保罗 布鲁克斯
分类号 B05D5/02;B08B3/00;B05D7/14 主分类号 B05D5/02
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 德国