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发明名称
APPARATUS FOR DRY ETCHING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号
KR20050038898(A)
申请公布日期
2005.04.29
申请号
KR20030074211
申请日期
2003.10.23
申请人
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
发明人
KIM, YONG DAE;YON, SOON HO
分类号
H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
主权项
地址
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