Verfahren zur Reinigung eines Halbleitersubstrats,申请号DE1999616728T-传众专利搜索

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发明名称	Verfahren zur Reinigung eines Halbleitersubstrats
摘要
申请公布号	DE69916728(T2)	申请公布日期	2005.04.28
申请号	DE1999616728T	申请日期	1999.08.23
申请人	MITSUBISHI MATERIALS CORP., TOKIO/TOKYO;MITSUBISHI MATERIALS SILICON CORP., TOKIO/TOKYO	发明人	TAKAISH, KAZUSHIGE;TAKADA, RYOKO
分类号	H01L21/304;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/306	主分类号	H01L21/304
代理机构		代理人
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