| 发明名称 | 用于平面矩形或方形基片的真空－处理设备 | ||
| 摘要 | 一个真空－处理设备被设置用于大边缘长度的平面基片，该基片在一个至少基本垂直位置上被输送和处理。该设备包括：一个真空室并带有至少两个在其圆周上分布的向真空室侧开闸口的处理室，一个闸口系列和在真空室内基片夹持器(13)的一个可转动配置结构带有一个用于该基片夹持器(13)相对处理室的按顺序转动及径向运动的驱动机构(1)，其中为了减小该定位表面，室容积和抽真空时间，为了简化该“操作”以及为了首先减少通过剥落的层材颗粒对基片的污染特建议，该基片夹持器在其下边区域中通过操纵杆装置(8)与驱动机构连接并且至少该操纵杆装置的下边回转轴承被安置在该基片夹持器承载表面的高度(H)的一水平中心线(M)下方。 | ||
| 申请公布号 | CN1609269A | 申请公布日期 | 2005.04.27 |
| 申请号 | CN200410085683.1 | 申请日期 | 2004.10.15 |
| 申请人 | 应用菲林股份有限两合公司 | 发明人 | R·林登伯格;F·富克斯;U·舒斯勒;S·班格特;T·斯托利 |
| 分类号 | C23C14/56 | 主分类号 | C23C14/56 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 苏娟;赵辛 |
| 主权项 | 1.用于在一个至少基本垂直位置上的平面矩形或方形基片的真空-处理设备，包括：一个真空室(15)，带有至少两个在该真空室(15)的圆周上分布的向真空室侧开闸口的处理室(27，28，43)；一个装入闸口(38)；一个送出闸口(40)；和一个在真空室(15)内部的基片夹持器(13)的可转动配置结构，带有一个驱动机构(1，51)用于该基片夹持器(13)相对处理室(27，28，43)的按顺序的转动和进给及退出，其特征在于：该基片夹持器(13)在其下边的区域中通过操纵杆装置(8，57)与驱动机构(1，51)相连接并且至少该操纵杆装置(8，57)的下边回转轴承被安置在该基片夹持器(13)之承载表面高度(H)的一个水平中心线(M)下方。 | ||
| 地址 | 联邦德国阿尔策瑙 | ||