发明名称 Polymer and photoresist compositions
摘要
申请公布号 EP1127900(B1) 申请公布日期 2005.04.27
申请号 EP20010301598 申请日期 2001.02.22
申请人 SHIPLEY COMPANY LLC 发明人 SZMANDA, CHARLES R.;BARCLAY, GEORGE G.;TREFONAS, PETER;YUEH, WANG
分类号 C08F10/00;C08F4/00;C08F4/80;C08F32/08;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):C08F32/08 主分类号 C08F10/00
代理机构 代理人
主权项
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