发明名称 |
磁光记录媒体及其制造方法 |
摘要 |
提供一种用于通过聚焦波长/NA大约为1000nm或更小的光来记录和再现信息的磁光记录媒体,包括光入射到其一个表面即第一表面的光传输第一介质层;形成在第一介质层第一表面的背面即第二表面上的磁光记录层;形成在磁光记录层上的光传输金属层,其具有从磁光记录层散失热所要求的预定厚度(大约10nm或更多)和具有比磁光记录层更大的热导率;形成在光传输金属层上的光传输第二介质层;和形成在第二介质层上和反射光的金属反射层15,以及其生产方法。 |
申请公布号 |
CN1199163C |
申请公布日期 |
2005.04.27 |
申请号 |
CN00126288.2 |
申请日期 |
2000.07.07 |
申请人 |
索尼株式会社 |
发明人 |
佐飞裕一;川瀬公崇 |
分类号 |
G11B7/24;G11B7/26;G11B11/105 |
主分类号 |
G11B7/24 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
李德山 |
主权项 |
1.一种用于光学系统的磁光记录媒体,所述光学系统具有小于等于1000nm的波长/透镜数值孔径比,所述磁光记录媒体包括:光入射到其第一表面的第一光传输介质层;形成在与第一介质层的第一表面相对的第二表面上的磁光记录层;形成在磁光记录层上的光传输金属层,其具有比磁光记录层更大的导热率;形成在光传输金属层上的第二光传输介质层;和形成在第二介质层上并反射光的金属反射层;其中光传输金属层的厚度大于等于10nm且小于等于60nm。 |
地址 |
日本东京 |