| 发明名称 |
Combined wet and dry etching process for micromachining of crystalline materials |
| 摘要 |
A novel micromachining method in which dry etching and anisotropic wet etching are combined. |
| 申请公布号 |
US6885786(B2) |
申请公布日期 |
2005.04.26 |
| 申请号 |
US20020071261 |
申请日期 |
2002.02.07 |
| 申请人 |
SHIPLEY COMPANY, L.L.C. |
发明人 |
STEINBERG DAN A.;RASNAKE JASEAN |
| 分类号 |
B81C1/00;G02B6/136;G02B6/36;G02B6/42;(IPC1-7):G02B6/12;H01L31/00 |
主分类号 |
B81C1/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
