发明名称 雷射功率控制系统
摘要 一种雷射功率控制系统(laser power control system),用以控制一光学读写头所发送雷射之功率。该系统包含一温度感测器及一运算单元。该温度感测器系用以感测该光学读写头之温度,并据以产生一温度信号。该运算单元储存有该光学读写头之一控制关系,且用以接收该温度信号,并根据该控制关系,运算出该光学读写头在该温度信号所代表之温度下,输出一设定功率所需接收之一功率控制信号,并传送该功率控制信号至该光学读写头,以控制该光学读写头根据该设定功率发送雷射。
申请公布号 TWI231494 申请公布日期 2005.04.21
申请号 TW092130134 申请日期 2003.10.29
申请人 联发科技股份有限公司 发明人 邱靖宁;陈志远;徐敬全
分类号 G11B7/125 主分类号 G11B7/125
代理机构 代理人 陶霖 台北县中和市中正路738号11楼之5
主权项 1.一种雷射功率控制系统(laser power control system),用来产生一功率控制信号来控制一光学读写头所要发出雷射光之功率,该系统包含:一温度感测器(temperature sensor),用以感测该光学读写头之温度,并据以产生一温度信号;以及一运算单元(calculate unit),用以接收该温度信号,并储存有用来控制该光学读写头之一控制关系,其中该控制关系表示所要产生之该功率控制信号与该光学读写头之温度对于所要发出雷射光之功率的关系;其中该运算单元会根据该控制关系,运算出该光学读写头在该温度信号所代表之温度下,欲输出一设定功率至该光学读写头所需产生之功率控制信号,并传送该功率控制信号至该光学读写头中,以控制该光学读写头依该设定功率发出该雷射光。2.如申请专利范围第1项所述之雷射功率控制系统,其中该温度信号系类比讯号。3.如申请专利范围第2项所述之雷射功率控制系统,进一步包含一类比数位转换器,以将该温度信号由类比信号转换为数位信号。4.如申请专利范围第1项所述之雷射功率控制系统,其中该功率控制信号系数位信号。5.如申请专利范围第4项所述之雷射功率控制系统,进一步包含一数位类比转换器,用以将该功率控制信号由数位信号转为类比信号。6.如申请专利范围第1项所述之雷射功率控制系统,其中该运算单元进一步包含一记忆体,用以记录该控制关系之关系参数。7.如申请专利范围第1项所述之雷射功率控制系统,其中该控制关系是在不同温度下,量测该光学读写头之发送功率与该功率控制信号之关系而得。8.一种雷射功率控制方法(laser power control method),用来产生一功率控制信号来控制一光学读写头所发出雷射光之功率,该方法包含:感测该光学读写头之温度,并据以产生一温度信号;预先储存用来控制该光学读写头之一控制关系,其中该控制关系表示所要产生之该功率控制信号与该光学读写头之温度对于所要发出雷射光之功率的关系;根据该控制关系,运算出该光学读写头在该温度信号所代表之温度下,欲输出一设定功率至该光学读写头所需产生之功率控制信号;以及传送该功率控制信号至该光学读写头中,以控制该光学读写头依该设定功率发出该雷射光。9.如申请专利范围第8项所述之雷射功率控制方法,其中该温度信号系类比讯号。10.如申请专利范围第9项所述之雷射功率控制方法,进一步包含下列步骤:将该温度信号由类比信号转换为数位信号。11.如申请专利范围第10项所述之雷射功率控制方法,其中该功率控制信号系数位信号。12.如申请专利范围第11项所述之雷射功率控制方法,进一步包含下列步骤:将该功率控制信号由数位信号转为类比信号。13.如申请专利范围第8项所述之雷射功率控制方法,进一步包含下列步骤:在该温度信号所代表之温度下,利用该控制关系,计算出一设定功率所需接收之一功率控制信号,并传送至该光学读写头进而获得该设定功率之雷射功率输出。14.如申请专利范围第13项所述之雷射功率控制方法,其中该控制关系系由该光学读写头在不同温度下,量测该光学读写头之发送功率与该功率控制信号之关系而得。图式简单说明:图一为本发明雷射功率控制系统之示意图。图二为图一所示之雷射功率控制系统于固定功率控制信号输入下之温度感测器的输出电压与雷射功率之控制关系图。图三为图一所示之雷射功率控制系统于固定温度下雷射功率控制电压与光学读写头31所发送之雷射功率两者之相对应关系图。图四为本发明产生功率修正曲线之流程图。图五为图四所示之流程所产生之修正曲线的示意图。图六为本发明雷射功率控制方法之流程图。图七为本发明另一实施例雷射功率控制方法之流程图。
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