发明名称 流理台底座
摘要 本创作系提供一种改良之流理台底座系,其包含有:一本体,为具有预定面积之平板状;若干第一承载部,以一体成型方式凸出于该本体之上端面一预定高度,并具有预定宽度,以及朝向该本体前端之一前缘区与朝向该本体后端之一后缘区;若干第一透气孔,分别设于对应之各该第一承载部之前缘区,并贯通其上、下端面。藉此,以使各该第一透气孔可分别隐藏于向上凸起之各该第一承载部之后方,而不会破坏该本体光亮洁净之外观,而且,各该透气孔又不会直接与厨具之底部接触,因此,亦不致刮伤其底部。
申请公布号 TWM262091 申请公布日期 2005.04.21
申请号 TW093213750 申请日期 2004.08.30
申请人 敬田工业有限公司 发明人 张建传
分类号 A47B96/06;A47B77/00 主分类号 A47B96/06
代理机构 代理人
主权项 1.一种流理台底座,包含有: 一本体,为具有预定面积之平板状; 若干第一承载部,以一体成型方式凸出于该本体之 上端面一预定高度,并具有预定宽度以及分别朝向 该本体前端之一前缘区,与朝向该本体后端之一后 缘区; 若干第一透气孔,分别设于对应之各该第一承载部 之前缘区,并贯通其上、下端面。 2.一种流理台底座,包含有: 一本体,为具有预定面积之平板状; 若干第一承载部,以一体成型方式凸出于该本体之 上端面一预定高度,并具有预定宽度以及朝向该本 体前端之一前缘区,与朝向该本体后端之一后缘区 ; 该本体其未向上凸出之平面部位,在相邻于该第一 承载部后缘之后方,形成有一遮蔽区; 若干第二透气孔,分别设于对应之各该遮蔽区,并 贯通其上、下端面。 3.依据申请专利范围第1或2项所述之流理台底座, 其中该第一承载部系呈圆弧形之颗粒状。 4.依据申请专利范围第1或2项所述之流理台底座, 其中该第一承载部系长轴方向垂直于该本体前后 纵轴之长条状,且其横断面系呈圆弧形。 5.依据申请专利范围第1或2项所述之流理台底座, 其进一步包含有凸设于该本体上端面之若干第二 承载部,各该第二承载部系呈长条状,并具有圆弧 形之横断面形状,且各该第一、第二承载部其分别 凸出于该本体上端面之高度相同。 6.依据申请专利范围第1或2项所述之流理台底座, 其进一步包含有一延伸部,其一端与该本体之前端 相连接,而另一端则由该本体之下方朝后延伸预定 长度,且该端与该本体下端面相隔预定距离。 7.依据申请专利范围第6项所述之流理台底座,其进 一步包含有分别贯通该延伸部预定部位上、下端 面之若干个第二透气孔。 8.依据申请专利范围第7项所述之流理台底座,其中 该延伸部其对应于该本体前端下方之部位,形成有 朝后退缩预定深度之一阶段区;各该第二透气孔即 系设为贯通该该阶段区预定部位之上、下端面。 9.依据申请专利范围第6项所述之流理台底座,其进 一步包含有分别贯通该延伸部预定部位前、后端 面之若干个第二透气孔。 10.依据申请专利范围第9项所述之流理台底座,其 中该延伸部其对应于该本体前端下方之部位,形成 有朝后退缩预定深度之一阶段区;各该第二透气孔 即系设为贯通该该阶段区预定部位之前、后端面 。 11.一种得与申请专利范第1或2项所述流理台底座 结合之流理台筒身,系置于该流理台底座上方,并 包含有: 至少一门扇,设于其前端; 前梁,设于其前端上方,并具有一透气区,位于该前 梁之上半部,其上设有贯通其前、后端面之若干穿 孔;一抵接部,位于该前梁之下半部,系呈具有较佳 强度之连续弯折状,并可用以挡止于该门扇之后方 。 图式简单说明: 第一图系本创作较佳实施例(一)与一流理台筒身 配合使用时之立体示意图。 第二图系第一图之剖视示意图。 第三图系本创作较佳实施例(一)之立体图。 第四图系本创作较佳实施例(一)之剖视放大图。 第五图系本创作较佳实施例(二)之剖视放大图。 第六图系本创作较佳实施例(三)与另一流理台筒 身配合使用时之立体示意图。 第七图系本创作较佳实施例(三)之剖视放大图。
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